論文審査結果

1月にJ. of Phys. D: Applied Physicsに投稿した論文の査読結果が返ってきました。とても好意的なレフリーの返事で

（It represents a significant advance over previous models of such discharges, since biasing of the wafer is considered. The frequency and amplitude of the bias voltage strongly influence the properties of the discharge…

The modelling is of high quality, and the authors carefully explain the methods and approximations used. They compare the predictions of the model with analytic expression, allowing physical insights into their results. The paper is well written and easy to follow.
I recommend that the paper be published in J. Phys. D: Appl. Phys..)


マイナー修正で通りそうです。　それにしても5ヶ月とは…　日本のJJAPとかの方が圧倒的に速いですね。　処理する量が違うのだろうけど。

そして今日、IEEE　Trans. Plasma Sci.に新しい論文をサブミットしました。CF4プラズマについてです。
IEEEは文献のタイトルまですべて記述しなくてはいけないのが面倒くさい。逆に言えば読者に優しいということ?　この論文は作者の略歴や顔写真まで付くので面白そう。

来月の奈良の学会では新たなネタを発表します(結果が出ればの話ですが)。こちらはJ. of Plasma Physicsでプロシーディングスになる予定です。　
ネタはCF4プラズマのバイアス効果について。今のところ理論、実験とよく一致する結果が出ています。

7月中ごろまでは息つくヒマはなさそうですが今週末はレース。まあ何とかなるでしょ。


＊今日の練習＊

朝　SWIM　ガスティ　　main　800*4　EN1
　　　　　　　　　　　行き帰りBIKE　　　　
　
＊今日の英語＊

"lament" 　嘆く