応用物理学会で私が共同研究者になっている発表一覧を示します。
フレームデポジション法により合成した酸化イットリウム膜の気孔率
○白井友之1，中村淳1,2，大塩茂夫1，戸田育民1，小松啓志1，齋藤秀俊1 （長岡技科大1，中部キレスト2）
フレームデポジション法により合成した酸化エルビウム膜の堆積速度と気孔率
○白井友之1，中村淳1,2，大塩茂夫1，戸田育民1，小松啓志1，齋藤秀俊1 （長岡技科大1，中部キレスト2）
大気開放型化学気相析出法で合成したSrO膜
○（P）小松啓志，田邊森人，大塩茂夫，戸田育民，村松寛之，齋藤秀俊 （長岡技科大）
キャリアガス種の異なる大気開放型化学気相析出法で合成したSrO膜
○（P）小松啓志，大塩茂夫，戸田育民，齋藤秀俊 （長岡技科大）
負パルスバイアス電圧印加RFPECVD法により合成したa-C:H膜の光学定数の特性評価
○（D）周小龍，サラユット トゥンミー，小松啓志，戸田育民，大塩茂夫，齋藤秀俊 （長岡技科大）
酸性塩化ナトリウム水溶液に対する水素化アモルファス炭素膜の耐腐食特性および表面形態の変化
○荒川悟，サラユット トゥンミー，周小龍，中谷恭之，小松啓志，戸田育民，大塩茂夫，齋藤秀俊 （長岡技科大）
電圧印加状態における水素化アモルファス炭素膜の腐食解析
○中谷恭之，サラユット トゥンミー，周小龍，小松啓志，戸田育民，大塩茂夫，齋藤秀俊 （長岡技科大院）
DLC膜の生体適合性に関する評価
○多田晴菜1，馬渕康史1，日比野麻衣1，大越康晴1，平塚傑工2，尾関和秀3，森山匠4，Ali Alanazi5，斉藤秀俊6，深田直樹7，中森秀樹2，Nataliya Nabatoba-Gabain4，櫻井正行4，佐藤慶介1，平栗健二1，福井康裕1 （東京電機大1，ナノテック2，茨城大3，堀場製作所4，キング・サウド大5，長岡技術科学大6，物材機構7）
大気開放型CVD法を用いたNb:TiO2膜の合成と抵抗率
○（M2）小林望，菊田剛史，小松啓志，大塩茂夫，戸田育民，齋藤秀俊 （長岡技科大）
Si含有DLC膜の原子状酸素照射効果
○貴傳名健悟1，新部正人1，横田久美子2，田川雅人2，古山雄一3，小松啓志4，齋藤秀俊4，神田一浩1 （兵庫県立大高度研1，神戸大院工2，神戸大院海事3，長岡技科大4）
高圧相SrO:Ce紫外蛍光体のアニール試験
○（P）小松啓志1，中村淳1,2，大塩茂夫1，戸田育民1，村松寛之1，齋藤秀俊1 （長岡技科大1，中部キレスト2）
ナノポーラスカーボンによるCO2およびCH4吸着挙動
○石橋佳国，李観成，戸田育民，小松啓志，大塩茂夫，姫野修司，齋藤秀俊 （長岡技科大院）
リグニン由来ナノポーラスカーボンのCH4, CO2吸着特性
○（P）戸田育民，李観成，石橋佳国，大塩茂夫，姫野修司，小松啓志，齋藤秀俊 （長岡技大）
水含有状態のナノポーラスカーボンにおけるCO2吸着挙動
○（P）戸田育民，石橋佳国，大塩茂夫，姫野修司，小松啓志，齋藤秀俊 （長岡技大）
高周波プラズマCVDによる高窒素含有a-CNx:H薄膜の形成
○櫻井一貴，津田哲平，齋藤秀俊，伊藤治彦 （長岡技科大工）
フレームデポジション法により合成した酸化イットリウム膜の気孔率
○白井友之1，中村淳1,2，大塩茂夫1，戸田育民1，小松啓志1，齋藤秀俊1 （長岡技科大1，中部キレスト2）
フレームデポジション法により合成した酸化エルビウム膜の堆積速度と気孔率
○白井友之1，中村淳1,2，大塩茂夫1，戸田育民1，小松啓志1，齋藤秀俊1 （長岡技科大1，中部キレスト2）
大気開放型化学気相析出法で合成したSrO膜
○（P）小松啓志，田邊森人，大塩茂夫，戸田育民，村松寛之，齋藤秀俊 （長岡技科大）
キャリアガス種の異なる大気開放型化学気相析出法で合成したSrO膜
○（P）小松啓志，大塩茂夫，戸田育民，齋藤秀俊 （長岡技科大）
負パルスバイアス電圧印加RFPECVD法により合成したa-C:H膜の光学定数の特性評価
○（D）周小龍，サラユット トゥンミー，小松啓志，戸田育民，大塩茂夫，齋藤秀俊 （長岡技科大）
酸性塩化ナトリウム水溶液に対する水素化アモルファス炭素膜の耐腐食特性および表面形態の変化
○荒川悟，サラユット トゥンミー，周小龍，中谷恭之，小松啓志，戸田育民，大塩茂夫，齋藤秀俊 （長岡技科大）
電圧印加状態における水素化アモルファス炭素膜の腐食解析
○中谷恭之，サラユット トゥンミー，周小龍，小松啓志，戸田育民，大塩茂夫，齋藤秀俊 （長岡技科大院）
DLC膜の生体適合性に関する評価
○多田晴菜1，馬渕康史1，日比野麻衣1，大越康晴1，平塚傑工2，尾関和秀3，森山匠4，Ali Alanazi5，斉藤秀俊6，深田直樹7，中森秀樹2，Nataliya Nabatoba-Gabain4，櫻井正行4，佐藤慶介1，平栗健二1，福井康裕1 （東京電機大1，ナノテック2，茨城大3，堀場製作所4，キング・サウド大5，長岡技術科学大6，物材機構7）
大気開放型CVD法を用いたNb:TiO2膜の合成と抵抗率
○（M2）小林望，菊田剛史，小松啓志，大塩茂夫，戸田育民，齋藤秀俊 （長岡技科大）
Si含有DLC膜の原子状酸素照射効果
○貴傳名健悟1，新部正人1，横田久美子2，田川雅人2，古山雄一3，小松啓志4，齋藤秀俊4，神田一浩1 （兵庫県立大高度研1，神戸大院工2，神戸大院海事3，長岡技科大4）
高圧相SrO:Ce紫外蛍光体のアニール試験
○（P）小松啓志1，中村淳1,2，大塩茂夫1，戸田育民1，村松寛之1，齋藤秀俊1 （長岡技科大1，中部キレスト2）
ナノポーラスカーボンによるCO2およびCH4吸着挙動
○石橋佳国，李観成，戸田育民，小松啓志，大塩茂夫，姫野修司，齋藤秀俊 （長岡技科大院）
リグニン由来ナノポーラスカーボンのCH4, CO2吸着特性
○（P）戸田育民，李観成，石橋佳国，大塩茂夫，姫野修司，小松啓志，齋藤秀俊 （長岡技大）
水含有状態のナノポーラスカーボンにおけるCO2吸着挙動
○（P）戸田育民，石橋佳国，大塩茂夫，姫野修司，小松啓志，齋藤秀俊 （長岡技大）
高周波プラズマCVDによる高窒素含有a-CNx:H薄膜の形成
○櫻井一貴，津田哲平，齋藤秀俊，伊藤治彦 （長岡技科大工）
