下地レジスト

EP1832929
[0045] Such use of one or more acid generator compounds can favorably impact lithographic performance, particularly resolution, of the developed image patterned in an underlying resist layer.
  １以上の酸発生剤化合物のこのような使用は、下地レジスト層においてパターン化された現像された画像のリソグラフィー性能、特に解像度に有利に影響を及ぼし得る。

US2010297852
[0020] The resist-curing compositions of the invention further include one or more crosslinker.
本発明のレジスト硬化性組成物は、１種以上の架橋剤をさらに含む。

This component is believed to promote cross-linking reactions under elevated temperature within and/or between one or more of the primary amine,
この成分は、高温において、前記第一級アミン、

the optional multifunctional aromatic methanol derivative,
任意成分である多官能性芳香族メタノール誘導体、

the underlying resist polymer, for example, a deprotected portion of the polymer chain in the case of a positive-acting material.
下地レジストポリマー、例えば、ポジ型物質の場合には、ポリマー鎖の脱保護部分、の１以上の、その内部でおよび／またはそれらどうしの間で、架橋反応を促進すると考えられている。