自己容量

US2018074553(JP、半導体エネルギー研究所)
"[0010] As such a touch-sensing device, a film/film-type touch sensor is often used which is obtained by laminating films enlarged to the same size as the cover glass.
このタッチ検出デバイスとしては、フィルム／フィルム型のタッチセンサーを、カバーガラスと同等のサイズまで拡大させてラミネートしたものが使われることが多い。

In the case of a smart device whose thickness is not particularly limited, a glass/glass-type touch-sensing device is sometimes used.
特に、厚さに制約がないような機種の場合には、ガラス／ガラスタイプのものが用いられることもある。

As a touch-sensing system, a capacitive touch-sensing system is recently often used.
タッチの検出方式としては、近年は静電容量方式のものが採用されることが多い。

For a main display, one of projected capacitive touch-sensing systems, called “mutual capacitive touch-sensing system”, is used which has fine electrode patterns in both x- and y-axis directions.
メインディスプレイ向けには、投影型静電容量方式の中でも、「相互容量方式」と呼ばれる、ｘ軸、ｙ軸方向それぞれに精細な電極パターンを有する方式が採用される。

This system allows so-called “multi-touch” so that two or more touches can be detected. 
当該方式では、いわゆる「マルチタッチ」と呼ばれる２点以上のタッチ検出が可能となる。

[0011] Since such a touch sensor is used, a light-emitting device having no touch function has heretofore been used in a common function key area.【００１１】
このようなタッチセンサーを利用するため、これまでは共通機能キーの部分には、タッチ機能を持たない発光デバイスが使用されていた。

However, with the recent advent of so-called “in-cell”- or “on-cell”-type displays,
しかしながら、近年、いわゆる「インセル」型、又は「オンセル」型のディスプレイが登場したことにより、

a light-emitting device for common function keys has strongly been required to have its own touch-sensing function. 
共通機能キー用の発光デバイスに、独自のタッチ検出機能を設けることが強く求められてきた。

[0012] On the other hand, a common function key area does not need to have the above-described multi-touch function,
【００１２】
その一方で、共通機能キーのような部分については、上記で述べたようなマルチタッチは必要なく、

and therefore one of capacitive touch-sensing systems capable of detecting On/Off, called “self-capacitive touch-sensing system”, can sufficiently fulfill functions required for common function keys.
Ｏｎ／Ｏｆｆを検出可能な静電容量方式の中でも、「自己容量方式」と呼ばれる方式を採用することで充分に要求機能を満たすことができる。

In the case of such a self-capacitive touch-sensing system, an electrode for touch detection has a simple pattern such as a solid pattern. 
この自己容量方式の場合、タッチ検出用の電極は、一面のベタパターン等から構成される単純な形状となる。

 

インセル化

US2018314099(JP, Sharp)
"[0064] As described earlier, the liquid crystal panel 11 according to this embodiment has the display function and the position input function (the position detection function). The display function is for displaying images. The position input function is for detecting positions (input positions) input by the user based on images that are displayed.
ところで、本実施形態に係る液晶パネル１１は、既述した通り、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置（入力位置）を検出する位置入力機能（位置検出機能）と、を併有しており、

The liquid crystal panel 11 includes a touchscreen pattern integrated therein (in-cell touchscreen technology) for performing the position input function.
このうちの位置入力機能を発揮するためのタッチパネルパターンを内蔵（インセル化）している。

The touchscreen pattern uses a so-called projection type electrostatic capacitance method. A detection method of the touchscreen pattern is a self-capacitance method.
このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされるものである。

As illustrated in FIG. 2, the touchscreen pattern is formed on the array board 11b of the pair of boards 11a and 11b.
タッチパネルパターンは、図２に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂのうちのアレイ基板１１ｂに設けられており、

The touchscreen pattern includes position detection electrodes 27 arranged in a matrix within a plane of the array board 11b.
アレイ基板１１ｂにおいてその面内にマトリクス状に並んで配される複数の位置検出電極２７から構成されている。

The position detection electrodes 27 are disposed in the display area AA of the array board 11b.
位置検出電極２７は、アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡに配されている。

The display area AA of the liquid crystal panel 11 substantially corresponds with a touching area in which input positions can be detected. The non-display area NAA of the liquid crystal panel 11 substantially corresponds with a non-touching area in which the input positions cannot be detected.
従って、液晶パネル１１における表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域とほぼ一致していることになる。

When the user brings his or her finger (a position detection object), which is a conductive member, closer to the surface of the liquid crystal panel 11 to input a position based on the image displayed in the display area AA of the liquid crystal panel 11, an electrostatic capacitance is obtained between the finger and the position detection electrode 27.
ここで、液晶パネル１１の表示領域ＡＡに表示される画像に基づいて使用者が位置入力をしようと液晶パネル１１の表面に導電体である指（位置検出体）を近づけると、その指と位置検出電極２７との間で静電容量が形成されることになる。

The electrostatic capacitance detected by the position detection electrode 27 closer to the finger varies from the electrostatic capacitance when the finger is away from the position detection electrode 27 as the finger approaches thereto. The electrostatic capacitance detected at the position detection electrode 27 closer to the finger is different from the electrostatic capacitance detected at any of the other position detection electrodes 27 away from the finger.
これにより、指の近くにある位置検出電極２７にて検出される静電容量には指が近づく前の状態から変化が生じ、指から遠くにある位置検出電極２７とは異なるものとなるので、

Therefore, the input position can be detected based on the difference in electrostatic capacitance.
それに基づいて入力位置を検出することが可能となる。

A parasitic capacitance may exist between the position detection electrode 27 away from the finger and a conductive member other than the finger. 
なお、位置検出電極２７は、指以外の導電体に対しても寄生容量を形成する場合もあり得る。

US2017262132(JP, Sharp)
[0054] As described earlier, the liquid crystal panel 11a ccording to this embodiment includes the display function and the position inputting function (the position detecting function). The display function is for image display. The position inputting function is for detecting position information, which is input by the user, based on a displayed image.
ところで、本実施形態に係る液晶パネル１１は、既述した通り、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置情報を検出する位置入力機能（位置検出機能）と、を併有しており、

The liquid crystal panel 11 includes a touchscreen pattern TPP (a position inputting device, a position detecting device) for performing the position inputting function. The touchscreen pattern TPP is embedded in the liquid crystal panel 11 (with the in-cell technology). 
このうちの位置入力機能を発揮するためのタッチパネルパターン（位置入力装置、位置検出装置）ＴＰＰを内蔵（インセル化）している。

The touchscreen pattern TPP uses the projection-type capacitive touchscreen technology, that is, a mutual capacitive detection method.
タッチパネルパターンＴＰＰは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が相互容量方式とされるものである。

The touchscreen pattern TPP is included only in the CF board 11a. Specifically, as illustrated in FIGS. 4 and 5, the touchscreen pattern TPP includes at least detection electrodes 38 (first position detection electrodes, receiving electrodes) and drive electrodes 39 (second position detection electrodes, transmitting electrodes). The detection electrodes 38 are arranged on an outer surface side of the CF board 11a (on the side opposite from the liquid crystal layer 11c side, the front side, a display surface side) and the drive electrodes 29 are arranged on an inner surface side of the CF board 11a (on the liquid crystal layer 11c side, the rear side, the side opposite from a display surface side).
このタッチパネルパターンＴＰＰは、専らＣＦ基板１１ａに設けられている。詳しくは、タッチパネルパターンＴＰＰは、図４及び図５に示すように、ＣＦ基板１１ａのうち、外面側（液晶層１１ｃ側とは反対側、表側、表示面側）に設けられる検出電極（第１位置検出電極、受信電極）３８と、内面側（液晶層１１ｃ側、裏側、表示面側とは反対側）に設けられる駆動電極（第２位置検出電極、送信電極）３９と、を少なくとも有してなる。

With the touchscreen pattern TPP, whether or not an input of position (touch operation) is present is detected based on a difference in capacitance between when an object (e.g., a finger of the user) which blocks an electric field between the detection electrode 38 and the drive electrode 39 is present and when the object is not present.
このタッチパネルパターンＴＰＰによれば、検出電極３８と駆動電極３９との間に形成される電界を遮る物質（使用者の指など）の有無による静電容量の差によって位置入力（タッチ操作）の有無を検出するようことができるものとされる。

The detection electrodes 38 and the drive electrodes 39 included in the touchscreen pattern TPP are arranged in the area of the CF board 11a in the display area AA.
タッチパネルパターンＴＰＰを構成する検出電極３８及び駆動電極３９は、ＣＦ基板１１ａの表示領域ＡＡに配されている。

The display area AA of the liquid crystal panel 11 substantially corresponds with a touch area in which positions of input are detectable. The non-display area NAA substantially corresponds with a non-touch area in which positions of input are not detectable.
従って、液晶パネル１１における表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域とほぼ一致していることになる。

In the end portions with respect to the short-side direction (the X-axis direction) which corresponds to the non-touch area of the inner surface of the CF board 11a (the non-display area NAA), position detection lines 40 are formed. The position detection lines 40 are connected to the drive electrodes 39 for transmitting drive signals Vdri to the drive electrodes 39. 
そして、ＣＦ基板１１ａの内面における非タッチ領域（非表示領域ＮＡＡ）である、短辺方向（Ｘ軸方向）についての両端部には、駆動電極３９に接続されて駆動電極３９に駆動信号Ｖdriを伝送するための位置検出配線部４０がそれぞれ設けられている。

US2018348904(JP, Sharp)
"[0053] As described above, the liquid crystal panel 11 according to the present embodiment performs both the display function for displaying an image, and the position input function (position detection function) for detecting a position of input by the user (input position) based on the displayed image. A touch panel pattern for performing the position input function as one of these functions is formed within the liquid crystal panel 11 (in-cell form).
ところで、本実施形態に係る液晶パネル１１は、既述した通り、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置（入力位置）を検出する位置入力機能（位置検出機能）と、を併有しており、このうちの位置入力機能を発揮するためのタッチパネルパターンを内蔵（インセル化）している。

This touch panel pattern is called a projection type electrostatic capacitive type touch panel pattern, and uses a self-capacitance detection system.
このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされるものである。

As illustrated in FIG. 7, the touch panel pattern is provided on the array substrate lib as one of the pair of substrates 11a and 11b, and is constituted by a plurality of position detection electrodes 19 arranged in a matrix within the plane of the display surface 11DS of the array substrate lib.
タッチパネルパターンは、図７に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂのうちのアレイ基板１１ｂに設けられており、アレイ基板１１ｂにおいて表示面１１ＤＳの面内にマトリクス状に並んで配される複数の位置検出電極１９から構成されている。

The position detection electrodes 19 are disposed in the display area AA of the array substrate 11b. Accordingly, the display area AA in the liquid crystal panel 11 is substantially equivalent to a touch area where an input position is detectable, while the non-display area NAA is substantially equivalent to a non-touch area where an input position is not detectable.
位置検出電極１９は、アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡに配されている。従って、液晶パネル１１における表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域とほぼ一致していることになる。

Each of the position detection electrodes 19 produces electrostatic capacitance between the position detection electrode 19 and the conductive housing 15 of the liquid crystal display device 10.
この位置検出電極１９は、液晶表示装置１０における導電性を有する筐体１５との間で静電容量を形成している。

On the other hand, when the user moves a finger (position detection body) F as a conductive body close to the surface of the cover glass 14 to input a position based on an image of the display area AA visually recognized through the cover glass 14 of the liquid crystal display device 10, electrostatic capacitance is also produced between the finger F and the corresponding position detection electrode 19.
これに対し、使用者が液晶表示装置１０におけるカバーガラス１４を通して視認する表示領域ＡＡの画像に基づいて位置入力をしようとしてカバーガラス１４の表面に導電体である指（位置検出体）Ｆを近づけると、その指Ｆと位置検出電極１９との間でも静電容量が形成されることになる。

In this case, the state of the electrostatic capacitance detected by the position detection electrode 19 located close to the finger F changes from the state before approach of the finger, wherefore the position detection electrode 19 located close to the finger F becomes different from the position detection electrode 19 located away from the finger F. Accordingly, the input position is detectable based on the difference thus produced.
これにより、指Ｆの近くにある位置検出電極１９にて検出される静電容量には指が近づく前の状態から変化が生じ、指Ｆから遠くにある位置検出電極１９とは異なるものとなるので、それに基づいて入力位置を検出することが可能となる。

The position detection electrode 19 may also produce parasitic capacitance between the position detection electrode 19 and a conductive body other than the housing 15 and the finger F. 
なお、位置検出電極１９は、筐体１５及び指Ｆ以外の導電体に対しても寄生容量を形成する場合もあり得る。

WO2015126848
"BACKGROUND 
【背景】
【０００３】
[0003] Devices having touch functionality have become widely used in everyday life.
タッチ機能を有するデバイスは、日常生活において広く使用されるようになっている。

Devices that may utilize, touch functionality include
タッチ機能を用いることができるデバイスは、

devices such as smartphones, tablet computers, electronic kiosks, gaming devices, personal computers
スマートフォン、タブレットコンピュータ、電子キオスク、ゲームデバイス、パーソナルコンピュータ、

and any other type of electronic device that can be configured to receive input through an interface that includes couch functionality.
及び他の何らかの形態の、タッチ機能を含むインタフェースを介して入力を受け付けるように構成可能な電子デバイスなどのデバイスを含む。

[0004] A dominant touch technology is projected capacitance technology.
【０００４】
主要なタッチ技術は、投影型静電容量技術（projected capacitance technology）である。

Projected capacitance technology provides high clarity and low reflectance for a display, and strong durability when used with devices having touch functionality.
投影型静電容量技術は、ディスプレイにおける高い明瞭さと、低い反射率（low reflectance）とを提供し、さらに、タッチ機能を有するデバイスにおいて使用される場合に高耐久性を提供する。

However, projected capacitance technology results in higher device power consumption as compared to the use of other touch technologies.
しかしながら、投影型静電容量技術は、結果として、他のタッチ技術に比較して、高い装置電力消費を招く。

This may have a significant impact on device performance, especially in battery powered portable devices.
これは、デバイス性能にとって、特にバッテリ駆動のポータブルデバイスにとって、重要な影響を持つ。

It would be desirable, therefore to provide technologies and techniques that allow lower power consumption in devices including touch technologies such as projected capacitance technology. 
したがって、投影型静電容量技術のようなタッチ技術を含むデバイスにおいて、より低い電力消費が可能な技術及び手法を提供することが望ましい。

"[0035] Figure 3A shows a simplified stack-up of a touch panel 300 including the piezoelectric layer 304 and features that may be similar to the stack-up of a projected capacitive touch panel.
図３Ａは、タッチパネル３００についての単純化された積層（stack-up）を示し、これは、圧電層３０４と、投影型静電容量タッチパネルの積層と同様とされうる特徴とを含む。

The conductive layers 302 and 306 may be both patterned out of a transparent conductive material such as ITO, Cu mesh, or Ag Nanowires, or just one of the conductive layers may be patterned and the other un-patterned to create the X-Y location sensing and a Z pressure sensing network.
導電層３０２及び３０６は、透明な導電材料、例えばＩＴＯ、銅メッシュ、銀ナノワイヤから、あるいは、パターン化されうる導電層及びパターン化されていない他のものであってＸ－Ｙ位置検知とＺ圧力検知ネットワークとを作るためのもののうちの一つから、ともにパターン化されている。

In one embodiment, the piezoelectric layer 304 can be a film that the electrodes formed by conducting layers 302 and 306 are deposited directly onto.
一実施形態では、圧電層３０４を、フィルムとすることができ、そこでは、導電層３０２及び３０６により形成された電極をその上に直接に配置することができる。

In another embodiment, piezoelectric layer 104may be a thin film that is laminated onto a thicker supporting substrate like PET, and the combination of the two can be represented as piezoelectric layer 304.
他の実施形態では、圧電層１０４は、ＰＥＴのような厚い支持基板上に貼り合わされる薄膜であってもよく、その二つの組み合わせは、圧電層３０４として表現されうる。

It yet another embodiment, the piezoelectric layer 304 can be printed by slot die coating or screen printing and coated onto a supporting substrate like PET, to form piezoelectric layer 304.
さらに他の実施形態では、圧電層３０４は、スロットダイコーティング（slot die coating）あるいはスクリーン印刷により印刷されてもよく、ＰＥＴのような支持基板上に塗布されて、圧電層３０４を形成してもよい。

The combination of the electrodes 302 and 306 form the sensing network that can sense pressure and location of the touch.
電極３０２及び３０６の組み合わせは、タッチの圧力及び位置を検出できる検出ネットワークを形成する。

In use with the embodiments of the disclosure the sensors may be connected by a switch, for example, to channel sensors 216a-216d of FIGURE 2.
この開示における実施形態と共に使う場合において、センサをスイッチにより、例えば図２のチャネルセンサ２１６ａ～２１６ｄに接続することができる。

The stack-up combination 300 can be used in external and embedded configurations such as on-cell and in-cell constructions, and the stack-up may be varied as needed. 
積層の組み合わせ３００を、外部的な、及び、埋め込みの構成において、例えば、オンセル（on-cell）及びインセル（in-cell）の構成において用いることができ、そして、必要に応じて積層を変化させることができる。

蓄積容量配線

EP2541315(JP)
"6. The liquid crystal display panel according to any one of claims 1 through 5, wherein
when viewed from the top of the liquid crystal display panel, at least part of the projecting section of the picture element electrode matches a region where a storage capacitor is formed, the storage capacitor being constituted by a storage-capacitor counter electrode connected to the drain electrode of the active element, an insulating layer, and a storage capacitor electrode connected to a storage capacitor line."

上記絵素電極の凸部の少なくとも一部は、平面視において、上記アクティブ素子のドレイン電極に接続された蓄積容量対向電極と絶縁層と蓄積容量配線に接続された蓄積容量電極とで構成される蓄積容量の形成領域と重なるように形成されていることを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の液晶表示パネル。

GB2516637
"The advantage of such an arrangement is that is allows each pixel to produce two regions of differing transmittance despite the application of only a single data voltage. This may allow an improvement in the wide viewing angle performance of the panel, and the design and usage of such a pixel arrangement for such purposes is disclosed in US7079214 (Sharp). A timing diagram showing how the voltages supplied to a pixel arrangement of Figure 2 may be controlled to provide differing transmittances from the two pixel regions, via capacitive coupling of the voltage change applied to the storage capacitor lines after removal of the gate pulse voltage, onto the pixel electrode, is given in Figure 3."

かかる配置の利点は、単一のデータ電圧のみの印加にも係わらず、各画素が異なる透過率の２つの領域を生成しうることである。これは、パネルの広視野角性能の改善を可能にし、かかる目的のためのかかる画素配置の設計および使用は、特許文献１（シャープ）に開示される。ゲート・パルス電圧の除去後に蓄積容量配線に印加される電圧変化の画素電極上への容量結合を通じて、２つの画素領域から異なる透過率を提供するために図２の画素配置へ供給される電圧がどのように制御されるかを示すタイミング図が図３に示される。

単数が複数ある、複数の単数がある

複数部材それぞれを構成する複数の要素のうち１つが、それぞれ並んで列を構成している場合。

「複数の矩形それぞれを構成する辺のうち１つの辺が、それぞれ同一方向に等間隔で並んで配置されている」

□□□□□（複数の矩形）

ーーーーー（それぞれを構成する辺のうち１つが並んだ）

 全体では複数の辺が等間隔で並んでいる。

英訳すると、

1) One of the sides of each of a plurality of rectangles is arranged at regular intervals in the same direction.

でオケ？主語がoneなのに、「等間隔で並んでいる」・・・？

接触可能

EP3134189
"19. The system according to claim 17 or claim 18, wherein the strap sensor 
comprises or is in communication with one or more first contacts on a first end or part of the strap and one or more second contacts on a second end or part of the strap, wherein one or more of the first contacts contact or are selectively contactable with one or more of the second contacts when the strap is closed or secured and the one or more first and second contacts are linked by a conductor configured to allow a measurement circuit to be completed by contact between the one or more first and second contacts and the system is configured to determine the adjustment position, circumference, configuration or size of the strap based on at least one electrical property of the measurement circuit measured by a strap sensor "

前記ストラップセンサが、前記ストラップの第１の部分に備えられた１個以上の第１接点と、前記ストラップの第２の部分に備えられた１個以上の第２接点とを備えるか、あるいは、第１接点および第２接点と通信可能であり、第１接点のうちの１個以上が、前記ストラップが閉じられるか固定されたときに、第２接点のうちの１個以上と選択的に接触可能であり、第１接点の１個以上および第２接点の１個以上の間の接触により測定回路を完成させるように構成されている導体によって、第１接点と第２接点とが結合されており、該システムが、前記ストラップセンサによって測定された前記測定回路の少なくとも１つの電気特性に基づいて、前記ストラップの前記調整位置、周囲長さ、形状、または長さを特定するように構成されている、請求項１７または１８に記載のシステム。

WO2011057097
"1. A device tor detecting non-cavitated caries lesions, comprising: 
a measuring electrode having an electrically conductive tip, said lip being dimensionally configured to fit within a fissure and provide electrical contact with a patient's tooth; 
a reference electrode, the reference electrode being configured for electrical contact with the patient's body; and 
measuring means for determining electrical conductance between the measuring electrode and the reference electrode, 
wherein the device is further configured to receive a current source for providing electrical current between the measuring electrode and the reference electrode. "

窩洞のない齲蝕病変を電気伝導度の測定によって検出するためのデバイスであって、

測定電極と、参照電極と、測定手段とを含み、

前記測定電極は、請求項１から７のいずれか一項に記載の測定電極であり、

前記参照電極は、患者の身体に電気的に接触可能であり、

前記測定手段は、前記測定電極及び前記参照電極の間の電気伝導度を測定することを特徴とするデバイス。

上下方向

WO2017079201
"4. The positioning apparatus of claim 2 further comprising an arm configured to be connected to the positioner member and pivotally associated with the second carriage body such that the arm is pivotable about a vertical axis when the positioner member is in the lowered use position."

請求項２に記載の位置決め装置において、前記位置決め装置用部材が前記下降使用位置にあるときにアームが上下方向軸線を中心に枢動可能であるように前記位置決め装置用部材に接続されかつ前記第２の架台本体に枢動可能に関連付けられるように構成された前記アームを更に備えることを特徴とする位置決め装置。

US2017136842
"1. A method of mitigating motion sickness in a vehicle, the method comprising:
mitigating motion of at least a portion of the vehicle within a first frequency range by a first degree during a first mode of operation;
detecting an event indicating an increased likelihood of motion sickness of at least one occupant of the vehicle;
mitigating motion of the portion of the vehicle within the first frequency range by a second degree, different than the first degree, during a second mode of operation.

2. The method of claim 1, operating at least one actuator that controls movement in the vertical direction of the vehicle to mitigate the motion of the vehicle body in the first mode and the second mode."

車両における乗り物酔いを軽減する方法であって、

  第１の動作モード中、第１の周波数範囲における前記車両の少なくとも一部の運動を第１の程度軽減することと、

  前記車両の少なくとも１人の乗員の乗り物酔いの可能性増加を示すイベントを検出することと、

  第２の動作モード中、前記第１の周波数範囲における前記車両の前記一部の運動を、前記第１の程度とは異なる第２の程度軽減することと

を備える方法。

【請求項２】

  前記第１のモードおよび前記第２のモードにおいて前記車体の運動を軽減するために前記車両の上下方向の運動を制御する少なくとも１つのアクチュエータを動作させる、請求項１に記載の方法。

曲げ加工を行う

US2014190228
"[0048] A press 1 for performing a deforming operation on, and particularly bending, a workpiece 11 comprises a frame 2 with a lower beam 4 and an upper beam 3 ( FIG. 1, 2). Lower beam 4 bears a lower strip or tool holder 5 on which is mounted a lower die 6 which defines a V-shaped recess 14."

加工品１１に変形加工、特に、曲げ加工を行うためのプレス１は、下側ビーム４および上側ビーム３を有するフレーム２を備えている（図１，２）。下側ビーム４は、下側ストリップまたは下側工具ホルダー５を支持している。

US2017079200
"[0029] Returning to Figure 4, the support frame 86 may be supported by one or more actuators 90, such as screw jacks, that are configured to enable vertical movement of the support frame 86, frame 84 and lower mold 82. This vertical movement can be downward to allow the shuttle device 30 to move over the lower mold 82 and then upward to facilitate release of the glass sheet from the shuttle device 30 to the lower mold 82. In addition, the vertical movement of the lower mold 82 can also be used in cooperation with downward vertical movement of the upper mold 60 to perform press bending of the glass sheet G between the molds 60 and 82. "

図４に戻ると、支持フレーム８６は、支持フレーム８６、フレーム８４および下型８２の上下方向の移動を可能にするように構成される、ねじジャッキなどの、１つまたは複数のアクチュエータ９０により支持されてもよい。この上下方向の移動は、シャトル装置３０が下型８２の上に移動することを可能にするために下に向かい、次いで、シャトル装置３０から下型８２へのガラス板の放出を容易にするために上に向かうことができる。加えて、下型８２の上下方向の移動はまた、金型６０と金型８２との間でガラス板Ｇのプレス曲げ加工を行うために上型６０の上下方向下向きの移動と協働して使用することができる。

WO2016171747
"One or both of the bending tools may be removed from the bone plate and/or plate member. At least one of the bending tools then may be associated with the bone plate at one or more other association sites, if further bending is to be performed at one or more other positions along the bone plate (or plate member). Removal of each bending tool may be performed by moving the bending tool parallel to the mating axis, but in a direction opposite to that followed for mating, and then separating the bending tool from the bone plate (or plate member) along an axis transverse to the plane of the bone plate (or plate member). "

曲げツールのうちの一方または両方は、骨プレートおよび／またはプレート部材から取り外され得る。曲げツールのうちの少なくとも一方は、その後、骨プレート（またはプレート部材）に沿った１つまたは複数の他の位置でさらなる曲げ加工を行う予定である場合、１つまたは複数の他の結合部位において骨プレートと結合され得る。各曲げツールの取り外しは、曲げツールを嵌合軸に平行に、しかし、嵌合のためにたどる方向とは反対の方向に動かし、それから、曲げツールを、骨プレート（またはプレート部材）の平面に対して横断方向の軸に沿って骨プレート（またはプレート部材）から離すことによって、行われ得る。

衝撃波の発生

US2014257144
"As such, a controller (e.g., microcontroller, processer, FPGA, and/or the like) may be coupled to each of control points 428a, 428b, 428c to control the timing of the opening of switches 420a, 420b, 420c and resulting discharge of capacitors 424a, 424b, 424c and generation of shockwaves. "

したがって、コントローラ（例えば、マイクロコントローラ、プロセッサ、ＦＰＧＡ、および／または同等物）は、スイッチ４２０ａ、４２０ｂ、４２０ｃの開放、ならびにコンデンサ４２４ａ、４２４ｂ、４２４ｃの結果として生じる放電および衝撃波の発生のタイミングを制御するように、制御点４２８ａ、４２８ｂ、４２８ｃのそれぞれに結合されてもよい。

US2012236299
"[0029] FIGS. 1A and 1B depicts the process of creating a cavitation bubble using a pulsed laser. FIG. 1A shows plasma generation within a volume of fluid as a result of irradiation with a focused laser pulse, followed by generation of a shockwave and cavitation bubble expansion and subsequent collapse."

パルスレーザーを用いてキャビテーション気泡を作製するプロセスを示す。集束レーザーパルスで照射した結果としての流体の体積内のプラズマ発生と、それに続く衝撃波の発生ならびにキャビテーション気泡の膨張およびその後の崩壊を示す。

線対称

US2011148049
"[0025] As indicated above, to facilitate attachment and retention of the gasket assembly 10 to the one of the members (not shown) being clamped together, the elastomeric portion 32 is formed about the projection 28, such as in a molding process, wherein the projection 28 is completely or substantially encapsulated within the elastomeric portion 32. As best shown in FIG. 5, the elastomeric portion 32 extends and transitions smoothly from the projection wall 29 into a flush or substantially flush relation with the upper surface 20 of the carrier body 12. The elastomeric portion 32 is configured, in its “as molded” configuration, to be retained within a predetermined size pocket of one of the members being clamped together. In addition, to further facilitate retention, the elastomeric portion 32 preferably has an annular bulbous region 34 that is sized for a line-to-line or slight interference fit within the pocket of the member. The bulbous region 34 is shown extending radially outwardly between an upper, radially inwardly tapered region 35 and a lower radially inwardly extending valley 37. As such, during assembly, the tapered region 35 facilitate initial entry of the feature 18 into the respective pocket of the member, while the valley 37 allows the elastomer material to flow axially as needed during interference of the bulbous region 34 with the wall of the pocket or receptacle. In addition, to facilitate assembly, the bulbous region 34 is formed having at least one, and shown as a plurality of scallops (three equally spaced scallops), also referred to as recessed sectors 41 to allow air to readily evacuate the respective pocket or receptacle upon being disposed therein. If not for the recessed sectors 41, a pressure build up of compressed air between the bulbous region 34 and the pocket could prevent the gasket from being properly positioned during assembly. "

  上で示したように、ともにクランプされる部材（図示せず）の１つにガスケットアセンブリ１０を取り付けおよび保持することを促進するよう、エラストマー部分３２がたとえば成型処理において突出部２８の周りに形成される。突出部２８は、完全または実質的にエラストマー部分３２内に封入される。図５にもっともよく示されるように、エラストマー部分３２は、担体本体１２の上部表面２０と面一または実質的に面一の関係になるように突出壁２９からスムーズに延在および遷移する。エラストマー部分３２は、その「成型された状態」の構成において、ともにクランプされる部材同士の１つのうちの所定サイズのポケット内に保持されるよう構成される。さらに保持を促進するために、エラストマー部分３２は好ましくは、環状の球状領域３４を有する。環状の球状領域３４は、上記部材のポケット内において線対称嵌合または若干の締まり嵌めのためにサイズ決めされる。球状領域３４は、半径方向内方に先細りになる上部領域３５と、半径方向内方へ延在する下部谷部３７との間において、半径方向外方に延在するよう示される。したがって、組み付けの間、先細りになる領域３５が部材のそれぞれのポケットへの機構１８の初期の導入を促進する一方、谷部３７が、ポケットまたはレセプタクルの壁との球状領域３４の干渉の間に必要とされるように軸方向にエラストマー材料を流すことを可能にする。さらに、組み付けを促進するよう、球状領域３４は、窪んだ区域４１とも称される少なくとも１つ、示されるのは複数のスカラップ（３つの等しく間隔を置いて配置されるスカラップ）を有するよう形成される。これにより、配置される際に、それぞれのポケットまたはレセプタクルから容易に空気を排気することが可能になる。窪んだ区域４１が設けられなかった場合、球状領域３４とポケットとの間の圧縮空気の圧力増大により、組み付けの間にガスケットが適切に位置決めされることが妨げられ得る。

"[0026] In manufacture, the carrier body 12, having had the through opening 26 and projection 28 already formed therein, is disposed in a mold cavity with a mold injection sprue or sprues of the mold machine extending upwardly in generally coaxial alignment with a central axis 36 of each of the through openings 26. Additional injection sprues can be incorporated as desired to provide the needed flow of elastomeric material. For example, the gasket body 12 can be formed having additional injection points, such as shown by recesses 43 in the inner portion 17, for example. The mold cavity is formed having the desired negative shape of the elastomeric portion 32 to be formed about the projection 28. As the melted elastomeric material is injected through the through openings 26, it is caused to flow through the channel 30, whereupon it flows through the annular gap 23 to form the seal bead 14 located between the inner portion 17 and the outer portion 19 and about the outer periphery 45 of the inner portion 17 to form in part the seal bead 14 about the inlet opening 16, which is also formed in part by elastomeric material bonded to the inner periphery 33 of the outer portion 19. Accordingly, upon completing the molding process, the elastomeric portions 32 and the seal bead 14 are connected as a continuous, monolithic piece of the elastomeric material via a bridge 39 of the elastomeric material. It should be recognized that the sealing bead 14 can be formed having any suitable geometry, depending on the application. Desirably, the sealing bead 14 has a portion extending outwardly beyond the opposite surfaces 20, 22 (above the upper surface 20 and below the lower surface 22), such that upon clamping the members into abutment with the carrier body 12, the sealing bead 14 is caused to elastically deform into sealed abutment with sealing surfaces of the members being clamped together. "

製造において、貫通開口部２６および突出部２８がすでに形成された担体本体１２は、成型機械の射出成型スプルーが、貫通開口部２６の各々の中心軸３６と略共軸に整列して上方向に延在する状態で、成型キャビティ内に配置される。付加的な射出スプルーが所望のように統合され得、これによりエラストマー材料の必要とされる流れを提供する。たとえば、内側部分１７における窪み４３によって、ガスケット本体１２は付加的な注入ポイントを有するよう形成され得る。成型キャビティは、突出部２８の周りに形成されるエラストマー部分３２の所望の窪み形状を有するよう形成される。溶けたエラストマー材料が、貫通開口部２６を通って注入されると、チャネル３０を通って流れる。その際、環状ギャップ２３を通って流れ、内側部分１７と外側部分１９との間であって、内側部分１７の外周縁４５の周りに配置される封止ビード１４を形成する。これにより、外側部分１９の内周縁３３に接合されるエラストマー材料によって部分的に形成されるインレット開口部１６の周りに部分的に封止ビード１４を形成する。これにより、成型処理を完了すると、エラストマー部分３２および封止ビード１４は、エラストマー材料の連続的なモノリシックピースとして、エラストマー材料のブリッジ３９を介して接続される。なお、封止ビード１４は、用途に依存して任意の好適な形状を有するよう形成され得る。望ましくは、部材をクランプして担体本体１２と当接させる際に、封止ビード１４は弾性変形されて、ともにクランプされる部材同士の封止面と封止当接するように、対向する表面２０，２２を超えて外方向に（上部表面２０の上および下部表面２２の下）延在する部分を有する。

US2016160872
"[0011] Embodiments relate to a sealing system between the backface of the compressor impeller and neighboring components, such as the bearing housing and/or the insert. The sealing system can improve the seal between the dynamic rotating assembly components and the complementary static components on the compressor-end of a turbocharger, thereby minimizing compressor-end oil passage and blow by. As used herein, the term “blow by” refers to high pressure change air (on compressor side) or exhaust gas (on turbine side) leaking into bearing housing and into engine crankcase. The sealing system can include sealing elements such as an external purge gas to enhance a clearance seal. The sealing elements can be operatively positioned at an interface between the rotating assembly and the complimentary static components. The purge seal selectively provides external pressurized gas or internally supplied charge gas (i.e., air) to the interface at the clearance seal to maintain an inward directed pressure gradient regardless of turbocharger operating conditions. The purge seal is supplied with gas via a gas supply path that includes a gas passageway formed in the bearing housing, one or more radial bores formed in an insert of the rotating assembly, and an axisymmetric cavity formed in the bearing housing intermediate to, and in fluid communication with, the gas supply path and the insert's radial bores. The axisymmetric cavity serves as an annular manifold to deliver gas to the insert radial bores, regardless of the orientation of the insert within the bearing housing. It is understood, however, that adding purge gas does not reduce blow-by leakage below the clearance seal's normal capability to prevent blow-by leakage. "

実施例は、圧縮機インペラの背面と軸受ハウジング及び／又は挿入部のような隣接している構成要素間の封止システムに関する。封止システムは、ターボ過給機の圧縮機端部上の動的回転組立体構成要素と相補型の固定構成要素との間の封止を改善することによって、圧縮機端部のオイル通過及びブローバイを最小化することができる。本明細書に用いられる用語「ブローバイ」は、高圧充填空気（圧縮機側）又は排気ガス（タービン側）の軸受ハウジング内への、及びエンジンクランクケース内への漏出を意味する。封止システムは、隙間シールを改善するために、外部パージガスシールのような封止要素を含むことができる。封止要素は、回転組立体と相補型の固定構成要素との間の界面に作動可能に配置することができる。パージシールは、ターボ過給機の作動条件に関わらず、内向圧力勾配を保持するために、隙間シールから界面に外部加圧ガス又は内部供給充填ガス（すなわち、空気）を選択的に提供する。パージシールには、軸受ハウジングに形成されたガス通路、回転組立体の挿入部に形成された１つ以上の半径方向ボア、及びガス供給通路と挿入部の半径方向ボアの中間に位置し、これらと流体連通する軸受ハウジングに形成された線対称キャビティを含むガス供給経路を通じてガスが供給される。線対称キャビティは、軸受ハウジングの内部における挿入部の方位に関係なく、挿入部の半径方向ボアにガスを送るための環状マニホールドとしての役割を果たす。しかしながら、パージガスの追加がブローバイ漏出を防止するための隙間シールの正常の能力を超えてブローバイ漏出を減少させないことを理解すべきである。

EP2984733
"Fig. 27 shows an axi-symmetric view of a variation based on the system shown in Fig. 26 . Only one surface of the lossy material is covered by a layered structure of copper and magnetic materials. The inductor loop is placed on the side of the copper and magnetic material structure opposite to the lossy material as shown."

【図２７】図２６に示すシステムに基づくバリエーションの線対称図であり、損失性材料の片面だけを銅及び磁性材料の層状構体によってカバーする。インダクタループは、銅及び磁性材料の構体における損失性材料とは反対側に位置する。

EP2785299
"[0040] The staple fiber web, such as when utilized as a fluid transport element of an assembled intermediate, can have various shapes including symmetrical (having a point, line, or plane of symmetry) or unsymmetrical shapes. The shape of the webs is envisioned to include but are not limited to circles, ovals, squares, rectangles, pentagons, hexagons, octagons, trapezoids, truncated pyramids, hourglasses, dumbbells, dog bones, etc. The edges and corners can be straight or rounded. The sides can be curved (convex or concave), tapered, flared, or angled. In addition, the web can contain cut-out regions that create voids, cavities, depressions, channels, or grooves. In some embodiments, the shape of the web is preferably rectangular. Regardless of the shape, the staple fiber web fluid transport elements can generally be defined as having a first major face, a second opposing major face substantially parallel to the first major face, and a thickness in a direction orthogonal to the first and second major face. "

複合中間材の流体移送要素として使用する際等の短繊維ウェブは、対称（点対称、線対称、又は面対称）形状又は非対称形状を含む種々の形状であり得る。ウェブの形状は、円、卵形、正方形、矩形、五角形、六角形、八角形、台形、角錐台、砂時計、ダンベル、犬用の骨等を含むと思われるが、これらに限定されるものではない。縁部と角部は真っ直ぐでも丸みがあってもよい。側面は曲がっていても（凸又は凹）、先細、フレア、又は角があってもよい。また、ウェブは、空隙、空洞、凹部、通路、又は溝を作る切欠き部を含み得る。一部実施形態において、ウェブの形状は矩形であることが好ましい。形状に関わらず、短繊維ウェブ流体移送要素は、一般に、第１主面と、第１主面に対してほぼ平行な第２対向主面と、第１主面及び第２主面に直行する方向の厚みと、を有すると画定される。

重畳

WO2016201309
"[0018] FIG. 5B is a schematic diagram of beam spots and melt balls resulting from overlapping multiple beam distributed exposures, consistent with embodiments of the present disclosure. "

本開示の実施形態と合致する、複数ビーム分布露光を重畳して得られるビームスポット及び溶融ボールの概略図である。

WO2013119604
"In some embodiments, during the analysis process, a certain number (e.g., at least four) of pictures of the sample can be taken. For example, one can take two pictures of the sample before analysis and two pictures after analysis. In some embodiments, prior to the analysis of the sample, one can take a picture of the sample in focus on the sample stage and label it as a "before" picture without a "grid." After selecting an area on the sample to be analyzed and superimposing a grid on the sample but prior to analyzing the sample, one can then take a second picture of the sample (which is still in focus and sitting on the sample stage) and label it as a "before" picture with a "grid." "

いくつかの実施形態では、分析プロセス中に、特定の数（例えば少なくとも４枚）の試料の写真を撮影することができる。例えば、分析前に試料の写真を２枚撮影し、分析後に２枚撮影することもできる。いくつかの実施形態では、試料の分析前に、試料台上で焦点が合っている試料の写真を撮影して、それに「分析前、グリッドなし」とラベルを付けることができる。分析する試料上である領域を選択し、その試料上にグリッドを重畳した後、ただしその試料を分析する前に、試料の第２の写真（依然として焦点が合っており、試料台上に載っている）を撮影し、それに「分析前、グリッド付き」とラベルを付けることができる。

WO2012149420
"[0025] One of the advantages of using motion detection and correction is to reduce the motion artifact shown in FIG. 3. Another advantage of motion detection and correction is to improve image quality of an OCT image by averaging multiple B-scans acquhed at the same intended location. However, when the number of B-scans used for averaging is increased, the resultant OCT image obtained through averaging will have blurring artifacts as a result of the superimposition of signals not obtained in the same locations due to motion. "

運動検出および補正を用いることの利点の１つは、図３に示す動きアーティファクトを減少させることである。運動検出および補正の他の利点は、同一箇所から取得した複数Ｂスキャンを平均化することにより、ＯＣＴ画像の画像品質を改善することである。しかし平均化のため用いるＢスキャンの数が増えると、平均化によって得られるＯＣＴ画像は、動きによって同一箇所から取得されなかった信号を重畳した結果として、ぼけの影響を有するようになる。

入射する、される、した

US2018197713
"1. A method of examining an integrated circuit (IC) using a scanning electron microscope (SEM) having an SEM column with an SEM column opening at one end from which an electron beam is emitted, the method comprising:
sealing the SEM column opening around a target area on the IC back-side to create a sealed volume at the SEM column opening, the target area forming a part of an enclosure of the sealed volume;
evacuating the sealed volume;
applying a voltage to a circuit element of the IC, the voltage inducing an electrical potential in the target area; and
scanning the electron beam over the target area to detect the electrical potential at the surface of the target area.

11. The method of claim 1 in which scanning the electron beam over the target area to detect the electrical potential at the surface of the target area comprises detecting secondary electrons emitted from the target area in response to the incident electron beam（＊「入射した電子ビーム」は初出だと思うが、定冠詞。target areaをスキャンしたから、自動的に「入射した」ことになる？）."

【請求項１】

  電子ビームが放出されるＳＥＭカラム開口を一端に含むＳＥＭカラムを有する走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を使用して集積回路（ＩＣ）を検査する方法であって、

  前記ＳＥＭカラム開口の位置に密閉された容積を生み出すために、前記ＩＣの裏面のターゲット領域の周囲において前記ＳＥＭカラム開口を密閉することであり、前記ターゲット領域が、前記密閉された容積の囲いの一部を形成することと、

  前記密閉された容積を排気することと、

  前記ＩＣの回路要素に電圧を印加することであり、前記電圧が、前記ターゲット領域内に電位を誘導することと、

  前記ターゲット領域の表面の前記電位を検出するために、前記ターゲット領域を前記電子ビームで走査することと

  を含む方法。

【請求項１１】

  前記ターゲット領域の表面の前記電位を検出するために、前記ターゲット領域を前記電子ビームで走査することが、入射した前記電子ビームに反応して前記ターゲット領域から放出された２次電子を検出することを含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。

WO2017053309
"1. A laser assisted remote phosphor system (400), comprising:
a light source (402);
a wavelength converter (409); and
a collimating metalens (401) comprising a first side and a second side;
wherein:
the light source (402) is configured to emit primary light rays (403), at least a portion of said primary light rays being incident on said wavelength converter (409);
the wavelength converter (409) is configured to convert at least a portion of the primary light rays (403) incident thereon to secondary light rays (415);
the collimating metalens (401) is positioned proximate to the wavelength converter (409) such that at least a portion of the secondary light rays (415) are incident on the first side of the collimating metalens (401); and
said collimating metalens (401) is configured to collimate said secondary light rays (415), so as to produce collimated secondary light rays (415) in a region down field ("DFR") of the collimating metalens (401), relative to said wavelength converter (409)."

レーザーアシストリモート蛍光システム（４００）であって、

  光源（４０２）;

  波長変換器（４０９）;及び

  第１面及び第２面を備えるコリメート・メタレンズ（４０１）を備え、

  前記光源（４０２）は、主光線（４０３）を放射するように構成され、前記主光線の少なくとも一部が、前記波長変換器（４０９）に入射し、

  前記波長変換器（４０９）は、そこに入射した主光線（４０３）の少なくとも一部を第２の光線（４１５）に変換するように構成され、

  前記コリメート・メタレンズ（４０１）は、前記第２の光線（４１５）の少なくとも一部が前記コリメート・メタレンズ（４０１）の第１面に入射するように前記波長変換器（４０９）の近傍に位置づけられ、

  前記コリメート・メタレンズ（４０１）は、前記波長変換器（４０９）に関して、前記コリメート・メタレンズ（４０１）の下流フィールド領域（「ＤＦＲ(region down field)」）にコリメートされた第２の光線（４１５）を生成するように、前記第２の光線（４１５）をコリメートするように構成される、システム。

WO2017027695
"9. The system of claim 8 wherein the reflective surface redirects infrared energy incident thereon toward the distal end of the fiber assembly."

請求項８のシステムであって、上記反射面が、その上に入射した赤外エネルギを上記ファイバアセンブリの先端へと差し向けるシステム。

EP2719097
"1. A distributed resonator laser system, comprising: 
first and second retro-reflectors, both of said retro-reflectors being such that a beam incident thereon is reflected back along a path essentially coincident with that of the incident beam; 
a gain medium disposed between said first and second retro-reflectors; an output coupler, disposed such that part of said beam impinging thereon is directed out of said resonator; 
a beam absorbing component disposed relative to said output coupler, such that that part of said beam directed out of said resonator impinges on said beam absorbing component; and 
at least one optical component having at least one non-fiat optical surface, disposed between said retro-reflectors, 
wherein said gain medium is essentially located at a pupil of the optical system incorporating said at least one optica! component having at least one non-flat optical surface. "

入射されるビームを、該入射ビームのパスと基本的に一致したパスに沿って逆に反射する第１及び第２の再帰反射器と、

  上記第１及び第２の再帰反射器間に配置された利得媒体と、

  それに当たった上記ビームの一部を上記共振器の外に向けるように配置された出力カプラと、

  上記共振器の外に向けられた上記ビームの一部が当たるように、上記出力カプラに対して配置されたビーム吸収部品と、

  上記再帰反射器間に配置され、少なくとも１つの非平面光学面を有する少なくとも１つの光学部品とを含み、

  上記利得媒体は、基本的には、上記少なくとも１つの非平面光学面を有する少なくとも１つの光学部品を組み込んだ光学系の瞳に配置されている分布共振器レーザシステム。

WO2013192579
"1. A method, comprising:
forming of an aluminum oxide layer having a predetermined thickness from an aluminum substrate in accordance with a current density having a periodically varying current density value , wherein the aluminum oxide layer is opaque in that the aluminum oxide layer prevents transmission of light incident at an exposed surface of the aluminum oxide layer to the aluminum substrate and wherein the aluminum oxide layer provides a white appearance in that the aluminum oxide layer reflects substantially all wavelengths of white light incident on the exposed surface."

周期的に変動する電流密度値を有する電流密度に対応した、アルミニウム基板からの所定の厚さを有する酸化アルミニウム層を形成することを含み、前記酸化アルミニウム層は不透明であって前記酸化アルミニウム層が前記酸化アルミニウム層の露出面に入射される光の前記アルミニウム基板への透過を防止し、前記酸化アルミニウム層は白い外観を提供して前記酸化アルミニウム層が前記露出面に入射される白光の実質的に全ての波長を反射する、方法。

縦シングルモード（レーザ）

US8023549
"In this step, the tilt angle θy may be adjusted so that the wavelength of the laser light is set to a value that has sufficient gain from the laser diode so that the external cavity laser operates in a single longitudinal cavity mode. The wavelength of the laser light can be adjusted, for example, while monitoring how much the θy-direction-rotating means (i.e., the stepper motor or the like) is driven or while using the one-dimensional monitoring means, the two-dimensional monitoring means or any other suitable means. "

この際、レーザ光の波長が任意の波長に設定されるように、つまり、レーザ光の波長が、外部共振レーザが縦シングルモードで動作し十分な利得を有する値に設定されるように、チルト角θｙを調整してもよい。レーザ光の波長は、例えば、θｙ回転手段（つまり、ステッピングモータ等）の駆動量、一次元位置モニタリング手段又は二次元位置モニタリング手段等を利用してモニタリングしながら、調整することができる。

US2014293287(JP)
"[0069] As described above, optical semiconductor laser element 44 in this embodiment consists of a vertical cavity surface emitting semiconductor laser (VCSEL) in a vertical single mode including a distributed bragg reflector (DBR). A wavelength of laser light L emitted from optical semiconductor laser element 44 (see FIG. 5) varies by about 0.4 (nm/k), for example, depending on the temperature of optical semiconductor laser element 44 itself. "

上述のとおり、本実施の形態における光半導体レーザー素子４４は、分布ブラッグ反射器（ＤＢＲ）を含む垂直キャビティ面発光型（ＶＣＳＥＬ）の縦シングルモードの半導体レーザーから構成され、光半導体レーザー素子４４から放射されるレーザー光Ｌ（図５参照）の波長は、光半導体レーザー素子４４自身の温度に応じてたとえば０．４（ｎｍ／Ｋ）程度変化する。

US2018254610(JP)
"[0040] The quantum cascade laser element 6 is a laser element of monopolar type which utilizes a level structure caused by subbands formed in a semiconductor quantum well structure, so as to generate light according to electronic transitions between the subbands. The quantum cascade laser element 6 operates as being driven in the CW (Continuous Wave) manner and has a distributed feedback structure incorporating a diffraction grating therein in order to obtain a longitudinal single-mode spectrum as a light source for spectroscopic measurement. "

量子カスケードレーザ素子６は、半導体量子井戸構造中に形成されるサブバンドによる準位構造を利用し、サブバンド間での電子遷移によって光を生成するモノポーラタイプのレーザ素子である。量子カスケードレーザ素子６は、ＣＷ（Continuous Wave）駆動で動作し、分光計測用の光源として縦シングルモードのスペクトルを得るため、回折格子を組み込んだ分布帰還型構造を有している。

初出の不定冠詞（実施例）

US2016224501
"[0022] FIG. 1 shows a simplified block diagram of a bus system according to a first exemplary embodiment. "

【図１】第１の実施例に係るバスシステムの簡素化されたブロック図を示す。

EP3077633
"SUMMARY

...In a first embodiment, the extending mechanism is disposed at a valve actuation end of the rocker arm, whereas in a second embodiment, the extending mechanism is disposed at the motion receiving end of the rocker arm. "

第１の実施例では、拡張機構がロッカー・アームのバルブ作動端部に配置されるのに対して、第２の実施例では、拡張機構がロッカー・アームの運動受け取り端部に配置される。

"[0013] FIG. 1 is a schematic block diagram of an apparatus and system for actuating engine valves in accordance with a first embodiment of the instant disclosure; "

本開示の第１の実施例に係る、エンジン・バルブを作動させるための装置及びシステムの概略ブロック図である。

"DETAILED DESCRIPTION OF THE PRESENT EMBODIMENTS

[0023] FIG. 1 illustrates a schematic block diagram of an apparatus 102 and system 100 for actuating engine valves in accordance with a first embodiment of the instant disclosure. "

【発明を実施するための形態】

  図１は、本開示の第１の実施例に係る、エンジン・バルブを作動させるための装置１０２及びシステム１００の概略ブロック図を例示する。

EP3078057
"FIG. 1 shows a weighing apparatus according to a first embodiment of the present invention;"

本発明の第１の実施例に係る計量装置を示す。

"Detailed description of the preferred embodiments and further optional features of the invention

[0106] FIG. 1 shows a weighing apparatus according to a first embodiment of the present invention. "

図１は、本発明の第１の実施例に係る計量装置を示す。

粒子計数を行う

US2009291062
"[0478] SEC, DLS and particle counting was performed to monitor protein stability, and particle counting was performed by using a particle counting system with a 1-200 μm measurement range (e.g. particle counter Model Syringe, Markus Klotz GmbH, Bad Liebenzell, Germany). Experiment details are as follows: "

タンパク質安定性を監視するためにＳＥＣ、ＤＬＳ及び粒子計数を行い、１－２００μｍ測定範囲の粒子計数システム（例えば粒子計数モデルシリンジ、Ｍａｒｋｕｓ  Ｋｌｏｔｚ  ＧｍｂＨ、Ｂａｄ  Ｌｉｅｂｅｎｚｅｌｌ、Ｇｅｒｍａｎｙ）を使用することにより粒子計数を行った。実験の詳細は次のとおりである。

粒子の移動速度

WO9734731
"7. A method according to any of the proceeding claims wherein the speed of travel of the particles prior to reaching the cut zone is in the range from 50-300 m/s."

切断ゾーンに到達する前の粒子の移動速度は、５０～３００ｍ／秒の範囲内にある、請求項１～６のいずれかに記載の方法。

WO2014179344
"The term "zeta potential" is used herein to mean without limitation a potential gradient that arises across an interface. This term especially refers to the potential gradient that arises across the interface at the surface of a nanoparticle, also referred to as surface charge. Migration velocity of the particles depends on the amount of the surface charges and the applied field strength. Particles having a positive zeta potential migrate toward the negative electrode, and likewise particles having a negative zeta potential migrate toward the positive electrode. To determine the rate of migration, migrating particles are irradiated with a laser in the electric field. "

「ゼータ電位」という用語は、本明細書では、これらに限定されないが、界面にわたって生じる電位の勾配を意味するために使用される。この用語は、特に、ナノ粒子の表面での界面にわたって生じる電位勾配を指し、また、表面電荷も指す。粒子の移動速度は、表面電荷の量および印加される場の強度に依存する。正のゼータ電位を有する粒子は負極の方へ移動し、同様に、負のゼータ電位を有する粒子は正極の方へ移動する。移動の速度を決定するためには、移動する粒子に、電場でレーザーを照射させる。

US2005239910
"In some inventive aspects, solid particulates can be carried along at substantially the same speed as the fluid-this happens with suspensions of very small particles that are held in solution by sol-type intermolecular interactions. In some preferred embodiments, the particulates move at a rate that is significantly slower (i.e., at least 10% longer mean residence times) than the carrier fluid-this happens where the velocity of the particles is decreased by a force other than the fluid drag on the particles including, but not limited to, gravity, a magnetic field, or electrostatic interactions with the walls. For example for particles which are large enough so that a gravitational body force acting on the particles has a non-trivial component in a direction opposite to the direction of fluid flow, the particles are slowed down relative to the bulk fluid flow."

発明の幾つかの様相では固体粒子は流体と実質的に同じ速度で連行され得るが、そうした連行は、懸濁粒子がゾルタイプの分子間相互作用により溶液内に保持される非常に小さいものである場合に生じる。幾つかの好ましい実施例では粒子はキャリヤ流体よりも著しく遅い速度で移動する（即ち、平均滞留時間が少なくとも１０％長い）が、そうした移動速度は、粒子に作用する流体の抗力以外の、例えば、これに限定するものではないが、重力、磁界、または壁との静電的相互作用、を含む力によって粒子速度が低下されることによって生じる。粒子が、例えば、流体の流れ方向とは逆の方向から粒子に作用する重力成分を大きくするに十分大きい場合は、粒子の移動速度は流体全体の流速と比較して遅くなる。

EP1514875
"[0014] Particles are manipulated using non uniform electric fields generated by various configurations of electrodes and electrode arrays. As a general biotechnological tool, dielectrophoresis is extremely powerful. From a measurement of the rate of movement of a particle the dielectric properties of the particle can be determined. More significantly, particles can be manipulated and positioned at will without physical contact, leading to new methods for separation technology. "

粒子は、様々な構成の電極および電極アレイによって生成された不均一電界を用いて操作される。バイオテクノロジの一般的なツールとして、誘電泳動は非常に強力である。粒子の移動速度の測定によって、粒子の誘電性を検出できる。さらに重要なことに、物理的に接触せずに、粒子を随意に操作および配置することが可能であり、それは分離技術の新たな方法につながるものである。