意志決定能力

US11268816(BOSTON DYNAMICS INC [US])
[0045] Referring now to FIGS. 2A and 2B, the low-level path generator 130 (using, for example, the potential field method) may encounter issues when navigating obstacles of certain shape and/or convexity.
【００２８】
  [0044]  次に図２Ａ及び２Ｂを参照すると、下位経路生成器１３０は（例えば、ポテンシャル場方式を使用）、特定の形状及び／又は凸面の障害物間を走行する際に問題に遭遇し得る。

For example, the low-level path generator 130 , while attempting to navigate to the high-level waypoint 210 of a corresponding navigation route 112 , may slide down an obstacle or surface 220 and get stuck in a local minimum 230 ( FIG. 2A).
例えば、下位経路生成器１３０は、対応するナビゲーションルート１１２の上位ウェイポイント２１０まで走行しようとしているときに、障害物又は表面２２０上を滑り落ちて、極小２３０に引っ掛かるかもしれない（図２Ａ）。

In another example, the low-level path generator 130 may lack the necessary context or decision-making ability regarding turning the robot 10 .
他の例では、下位経路生成器１３０は、ロボット１０を方向転換させることに関する、必要なコンテキスト又は意思決定能力を持たないかもしれない。

That is, the low-level path generator 130 may struggle to differentiate when to “turn then drive” versus “drive then turn” ( FIG. 2B).
すなわち、下位経路生成器１３０は、いつ「方向転換してから走行」すべきで、いつ「走行してから方向転換」すべきかを区別するのに苦慮し得る（図２Ｂ）。

連写

EP3986309(TESSERACT HEALTH INC [US])
[0142] In some embodiments, imaging apparatuses described herein (e.g., in connection with FIGs. 4A-1 IB) may be configured to capture two images in rapid succession to form a single depth image.
【００８９】
  いくつかの実施形態において、本明細書で（例えば、図４Ａ～図１１Ｂに関連して）説明する撮像装置は、単一の深さ画像を形成するように２つの画像を高速連続で撮像するように構成されることができる。

In some embodiments, two images taken in rapid succession are taken close enough together in time to ensure no eye movement occurs between the two images. 
いくつかの実施形態において、高速連写で撮像された２つの画像は、時間的に互いに十分に接近して撮影され、２つの画像間で眼の動きが確実に起こらないようにする。

US9787799(DROPBOX INC [US])
[0047] The associated metadata may, in some embodiments, also include exchangeable image file format (Exif) data received from the camera.
【００３３】
  関連するメタデータはまた、いくつかの実施形態において、カメラから受信した交換可能な画像ファイルフォーマット（Ｅｘｉｆ）データを含んでもよい。

The camera may assign a different extensions to images or videos, image types (e.g., panoramic), multi-shots, or any other capture content.
カメラは、画像若しくはビデオ、画像種別（例えば、パノラマ）、連写、又は任意の他の撮影コンテンツに異なる拡張子を割り当ててもよい。

US2019033209(SIEMENS HEALTHCARE DIAGNOSTICS INC [US])
[0071] For each of the above setups, all of these multiple images taken at multiple exposure times for each respective wavelength (e.g., R, G, and B) may be obtained in rapid succession,
【００６１】
  上記の設定のそれぞれについて、それぞれの波長（例えば、Ｒ、Ｇ、及びＢ）で複数の露光時間で撮影されたこれらの複数の画像のすべてを迅速に連続して得ることができ、

such that the entire collection of images for the specimen 212 from multiple viewpoints may be obtained in less than about 2 s.
複数の視点からの試料２１２の画像収集全体が、約２秒未満で得られるようにしてもよい。

For example, four different exposure images for each wavelength at three viewpoints using three cameras 440 A, 440 B, 440 C and back lighting with RGB light sources 444 A- 444 C will result in 4 images×3 colors×3 cameras=36 images, taken is rapid succession. 
例えば、３台のカメラ４４０Ａ、４４０Ｂ、４４０Ｃと、ＲＧＢ光源４４４Ａ～４４４Ｃを用いた背面照明を使用して、３つの視点において各波長に対して４つの異なる露光画像から、４つの連写画像×３色×３つのカメラ＝３６画像が得られる。

US10462524(FACEBOOK INC [US])
If the media presentation system 102 is using a sports production template,
メディアプレゼンテーションシステム１０２は、スポーツの生成テンプレートを使用している場合、

the media presentation system 102 may use longer continuous shots from the same media stream followed by replays from the selected media stream as well as other related media streams. 
選択したメディアストリームおよび他の関連するメディアストリームのリプレイが後続する、同じメディアストリームからのより長い連写画像を使用するようにしてもよい。

 As discussed below, the media presentation system 102 can employ a number of production templates in determining the optimal time the media presentation system 102 should provide a selected media stream to viewing users.
後述の通り、メディアプレゼンテーションシステム１０２は、選択したメディアストリームを視聴ユーザに提供すべき最適な時間の決定に、多くの生成テンプレートを採用することができる。

US9973677(QUALCOMM INC [US])
For example, a smartphone's user interface may have a camera menu in which the user is able to select between single shot, rapid shot, camera, refocusable image, and the like.
たとえば、スマートフォンのユーザインターフェースは、ユーザが、単写(single shot)、連写(rapid shot)、カメラ、再焦点合わせ可能画像、などの間で選択することができるカメラメニューを有することができる。

The capture of the series of images may be triggered by a single input, such as the user pressing a shutter button in the same manner as capturing a single image in single-shot mode.
一連の画像のキャプチャは、単写モードにおいて単一の画像をキャプチャするのと同じ方法においてシャッターボタンを押すユーザなどの、単一の入力によってトリガされ得る。

WO2013074207(APPLE INC [US])
The angles 1350 and 1350 only include video clips,, which can have extended durations.
【０１３３】
  アングル１３５０及び１３５０だけが、長い継続時間を有することができるビデオクリップを含む。

For still images, which have a duration of a single frame, some embodiments fill up the gaps between images by extending- the duration of tile still images until the start time for the next clip in the ordered sequence.
単一フレームの継続時間を有する静止画の場合、いくつかの実施形態は、順序付けられたシーケンスにおける次のクリップの開始時間まで、静止画の継続時間を伸ばすことによって画像間のギャップを埋める。

When multiple still images have the same start time (e.g., because they were take with a rapid-shoot camera: that can capture multiple images per second),
複数の静止画が同じ開始時間を有するとき（例えば、それらの静止画が、１秒当たり複数画像をキャプチャすることができる連写カメラで撮影されたので）、

some: embodiments identify the next start time in the ordered set of clips (after that shared by the images with the same time) and. space Out the image within the allotted time. 
いくつかの実施形態は、順序付けられたセットのクリップの次の開始時間を特定し（画像によって同時に共有された後の時間）、割当時間内で画像を離間させる。

 

＊rapid capture, rapidly taken, taken in rapid succession

曲線の頂点

US2020372973(VENN BIOSCIENCES CORP [US])
[0078] In some examples, including any of the foregoing, the centering comprises positioning an apex of a curve at a center of the retention window.
【００５９】
  上記のいずれかを含むいくつかの例では、中心に置くことは、保持ウィンドウの中心に曲線の頂点を配置することを含む。

US2021165934(DASSAULT SYSTEMES [FR])
[0271] The polyline is a line formed by vertices of the mesh and edges of the mesh each connecting two of said vertices.
【０１３７】
  ポリラインは、メッシュの頂点と、各々が前記頂点のうちの２つを接続するメッシュのエッジとによって形成されるラインである。

Providing the polyline may comprise defining the polyline on the mesh, e.g. by graphical user interaction.
ポリラインを提供することは、例えば、グラフィカルユーザ対話によって、メッシュ上のポリラインを定義することを含んでもよい。

For example, the mesh may be displayed on a computer display and a user may define the line by interacting graphically with the display, e.g. using a touch or a haptic device.
例えば、メッシュは、コンピュータディスプレイ上に表示されてもよく、ユーザは例えば、タッチ又は触覚デバイスを使用して、ディスプレイとグラフィカルに対話することによって、ラインを定義してもよい。

The user may for example draw the line or select the vertices and/or the edges of the line. 
ユーザは例えば、線を描くか、線の頂点及び／又はエッジを選択することができる。

US9912033(AT & T IP I LP [US])
The dielectric waveguide 204 can be placed such that a portion of the curved dielectric waveguide 204 is parallel or substantially parallel to the wire 202 .
誘電体導波路２０４は、湾曲した誘電体導波路２０４の一部が電線２０２と平行、又は実質的に平行であるように配置することができる。

The portion of the dielectric waveguide 204 that is parallel to the wire can be an apex of the curve, or any point where a tangent of the curve is parallel to the wire 202 .
電線と平行である誘電体導波路２０４の部分は、曲線の頂点とすることができるか、又は曲線の接線が電線２０２に対して平行である任意の点とすることができる。

プラズマ処理装置

US11554189(BLUEWAVE TECH INC [US])
[0045] Reference will be made to the attached Figures on which the same reference numerals are used throughout to indicate the same or similar components.
【００２３】
  同じまたは同様の部品を示すのに同じ参照番号を用いた図面を参照する。

With reference to the attached Figures, which show certain embodiments of the subject invention, it can be seen that certain embodiments of a plasma treatment device 10 of the subject invention
本発明の実施形態を示す図面を参照すると、本発明のプラズマ処理装置１０の実施形態は、

include a housing 50 that contains a treatment chamber 100 having the ability to be variable in size, as determined by the amount of negative pressure obtained in the treatment chamber
処理チャンバの負圧の量によって決められる、サイズ可変の処理チャンバ１００を含む筐体５０を有する。

that deforms the bag or configuration of a conformable wall 102 , which can form the treatment chamber.
処理チャンバ１００を形成するバッグまたはコンフォーマブルウォール１０２の構成は変形する。

There can further be at least one effluent chamber 3 .
さらに、少なくとも１つの排出チャンバ３がある。

Further, there can be at least one primary effluent chamber 1 and/or at least one secondary effluent chamber 2 .
また、少なくとも１つの第１の排出チャンバ１および／または少なくとも１つの第２の排出チャンバ２がある。

Other embodiments utilize a conformable bag into which an item can be placed for treatment.
その他の実施形態では、処理のために物品の配置されるコンフォーマブルバッグを用いる。

A conformable bag can, but is not required to be, within a housing 50 .
コンフォーマブルバッグは、必須ではないが、筐体５０内に配置される。

US10177024(LAM RES CORP [US])
[0002] Semiconductor substrate processing apparatuses are used to process semiconductor substrates by techniques including

etching, physical vapor deposition (PVD), chemical vapor deposition (CVD), plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), atomic layer deposition (ALD), plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD), pulsed deposition layer (PDL), plasma-enhanced pulsed deposition layer (PEPDL) processing, and resist removal.
エッチング、物理蒸着（ＰＶＤ）、化学気相成長（ＣＶＤ）、プラズマ支援式化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）、原子層堆積（ＡＬＤ）、プラズマ支援式原子層堆積（ＰＥＡＬＤ）、パルス堆積層（ＰＤＬ）、プラズマ支援式パルス堆積層（ＰＥＰＤＬ）処理、及びレジスト除去

などの技術によって半導体基板を処理するために、半導体基板処理装置が使用される。

One type of semiconductor substrate processing apparatus is a plasma processing apparatus that includes a reaction chamber containing upper and lower electrodes
半導体基板処理装置の一種は、上部電極と下部電極とを収容した反応チャンバを含むプラズマ処理装置であり、

wherein a radio frequency (RF) power is applied between the electrodes to excite a process gas into plasma for processing semiconductor substrates in the reaction chamber.
プロセスガスを励起させてプラズマ状態にして反応チャンバ内で半導体基板を処理するために、電極間に高周波（ＲＦ）電力が印加される。

US9870917(LAM RES CORP [US])
[0003] Plasma processing apparatuses（＊複数形）
【０００３】
  プラズマ処理装置は、

can be used to process semiconductor substrates by techniques including

etching, physical vapor deposition (PVD), chemical vapor deposition (CVD), plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), atomic layer deposition (ALD), plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD), pulsed deposition layer (PDL), plasma enhanced pulsed deposition layer (PEPDL) processing, and resist removal.
エッチング、物理気相堆積法（ＰＶＤ）、化学気相堆積法（ＣＶＤ）、プラズマ強化化学気相堆積法（ＰＥＣＶＤ）、原子層堆積法（ＡＬＤ）、プラズマ強化原子層堆積法（ＰＥＡＬＤ）、パルス堆積層（ＰＤＬ）、プラズマ強化パルス堆積層
（ＰＥＰＤＬ）処理、およびレジスト除去

を含む技術によって、半導体基板を処理するのに用いられうる。

US11581206(APPLIED MATERIALS INC [US])
[0098] FIG. 10 A is a schematic, cross-sectional view of a plasma processing apparatus 1000 that comprises one or more sensor modules, such as those described herein according to an embodiment.
【００７１】
  図１０Ａは、実施形態による、本明細書に記載されたような１つ又は複数のセンサモジュールを備えるプラズマ処理装置１０００の概略断面図である。

The plasma processing apparatus 1000 may be a plasma etch chamber, a plasma enhanced chemical vapor deposition chamber, a physical vapor deposition chamber, a plasma treatment chamber, an ion implantation chamber, or other suitable vacuum processing chamber. 
プラズマ処理装置１０００は、プラズマエッチングチャンバ、プラズマ化学気相堆積チャンバ、物理的気相堆積チャンバ、プラズマ処理チャンバ、イオン注入チャンバ、又は他の適切な真空処理チャンバでありうる。

US11415538(APPLIED MATERIALS INC [US])
[0090] Referring now to FIG. 9A, a schematic, cross-sectional view of a plasma processing apparatus 900 that comprises one or more sensor assemblies, such as those described herein, is shown, in accordance with an embodiment.
【００７１】
  ここで図９Ａを参照すると、実施形態による、本明細書に記載されるような１つ又は複数のセンサアセンブリを備えるプラズマ処理装置９００の概略断面図が示されている。

The plasma processing apparatus 900 may be a plasma etch chamber, a plasma enhanced chemical vapor deposition chamber, a physical vapor deposition chamber, a plasma treatment chamber, an ion implantation chamber, or other suitable vacuum processing chamber. 
プラズマ処理装置９００は、プラズマエッチングチャンバ、プラズマ化学気相堆積チャンバ、物理的気相堆積チャンバ、プラズマ処理チャンバ、イオン注入チャンバ、又は他の適切な真空処理チャンバでありうる。

US2020376749(BOEING CO [US])
[0032] Referring to FIGS. 1A, 2A, 4, 5, and 6, a method 600 for additive manufacturing includes treating the additive manufacturing powder particles 410 with plasma radiation 150 ( FIG. 6, Block 610 ).
【００２２】
  図１Ａ、２Ａ、４、５および６を参照すると、付加製造のための方法６００は、プラズマ放射１５０で付加製造粉末粒子４１０を処理することを含む（図６、ブロック６１０）。

The additive manufacturing powder particles 410 are
付加製造粉末粒子４１０は、

treated in any suitable plasma treatment apparatus 300 with a gas 330 selected depending on the types of functional groups 170 (e.g., on the type of laser energy/directed energy beam of the additive manufacturing process as described above) to be produced on the surfaces 110 of the individual manufacturing powder particles 100 . 
個々の製造粉末粒子１００の表面１１０に生成される官能基１７０のタイプ（例えば、レーザエネルギー／上述の付加製造プロセスの指向性エネルギービームのタイプ）に応じて選択されたガス３３０によって、任意の好適なプラズマ処理装置３００内で処理される。

電荷排出

US10832901(FEI CO [US])
[0060] Although the discussion above has consistently mentioned three different detection zones, the number three should be seen as a minimum number in this context.
【００２８】
  上記の論述は、３つの異なる検出ゾーンに関して一貫して述べられたが、３という数字は、文脈において最小数と見なされるべきである。

Since the readout time per detection zone is effectively constant (e.g. ca. 100 μs), having a greater number of detection zones essentially allows more “up time” registration activity to occur (in other zones) during the “down time” of a given zone.
検出ゾーン当たりの読み出し時間が事実上一定（例えば、約１００μｓ）であるため、より多数の検出ゾーンを有することは、本質的に、より多くの「稼働時間」の登録活動が、所与のゾーンの「休止時間」の間に起こることを可能にする。

Moreover, the greater the number of zones, the longer will be the relative “rest” time between consecutive invocations of a given detection zone (to register electrons), thus enhancing the advantages referred to above (such as allowing more complete charge drain). 
さらに、ゾーンの数が多いほど、（電子を登録する）所与の検出ゾーンの連続的な呼び出しの間の相対的な「休止」時間が長くなることになり、したがって、上述の利点（より完全な電荷排出を可能にする等）を増強する。

US10495939(VIEW INC [US])
[0040] The hold stage 208 is characterized by the application of a constant voltage VHold starting at time t3 .
【００３３】
  ホールド段階２０８は、時間ｔ_３で開始する定電圧Ｖ_Ｈｏｌｄの適用によって特徴付けられる。

The holding voltage VHold is used to maintain the ECD at the ending optical state.
ホールド電圧Ｖ_Ｈｏｌｄは、ＥＣＤを終了光学状態に維持するために使用される。

As such, the duration of the application of the holding voltage Vhold may be concomitant with the duration of time that the ECD is to be held in the ending optical state.
したがって、ホールド電圧Ｖ_Ｈｏｌｄの印加の持続時間は、ＥＣＤが終了光学状態にホールドされることになる時間期間に付随し得る。

For example, because of non-idealities associated with the ECD, a leakage current ILeak can result in the slow drainage of electrical charge from the ECD.
たとえば、ＥＣＤに関連する非理想性のために、漏れ電流Ｉ_Ｌｅａｋは、ＥＣＤから電荷がゆっくりと排出することをもたらす可能性がある。

Such a drainage of electrical charge can result in a corresponding reversal of ions across the ECD, and consequently, a slow reversal of the optical transition.
そのような電荷排出は、ＥＣＤにわたるイオンの対応する反転、その結果として、光学遷移の遅い反転をもたらす可能性がある。

US2012154535
[0085] Floating diffusion 822 a and transfer gate 826 a, and floating diffusion 822 b and transfer gate 826 b
【００６８】
  [0083]フローティングディフュージョン８２２ａ及び転送ゲート８２６ａ、並びに、フローティングディフュージョン８２２ｂ及び転送ゲート８２６ｂは、

respectively form first and second charge sensing elements 832 a and 832 b.
それぞれ、第１及び第２の電荷感知素子８３２ａ及び８３２ｂを形成する。

Floating diffusion 822 d and transfer gate 826 d form a background charge draining element 832 d which provides background illumination cancellation. 
フローティングディフュージョン８２２ｄ及び転送ゲート８２６ｄは、背景照明打ち消しを提供する背景電荷排出素子８３２ｄを形成する。

環境を構築

US2021275918(NVIDIA CORP [US])
 In the structure 260 of FIG. 2C, there is a single lane road that has three cars and a sidewalk, with two people and a tree proximate the sidewalk.
図２Ｃの構造２６０では、３台の車及び歩道がある１車線道路があり、歩道の近くに２人の人、及び木がある。

As can be seen, these structures represent two different scenes that were generated from the same rule set. 
見てわかるように、これらの構造は、同じ規則セットから生成された２つの異なるシーンを表している。

Such an approach can be used to build out, supplement, augment, generate, or synthesize a virtual environment including variations of object structure that all adhere to the selected rule set. 
こうした手法を使用して、選択された規則セットにすべて従った物体構造のバリエーションを含む仮想環境を構築、補足、拡張、生成、又は合成することができる。

EP4097923(SONATUS INC [US])
[000413] From a technological perspective, a centralized intrusion detection system, where signals/packets and messages are analyzed and processed at the same location,
[0216] 技術的な観点から、信号／パケット及びメッセージが同じ場所で分析及び処理される集中型の侵入検知システムは、

is fundamental for the early detection of potential attack vectors and the creation of a safer and secure vehicle environment.
潜在的な攻撃ベクトルを早期に検知し、より安全でセキュアな車両環境を構築するための基本的なものである。

US2023067026(DATAROBOT INC [US])
[0373] The term “system” may encompass all kinds of apparatus, devices, and machines for processing data, including by way of example a programmable processor, a computer, or multiple processors or computers.
【０３１１】
  用語「システム」は、例として、プログラマブルプロセッサ、コンピュータ、又は複数のプロセッサ又はコンピュータを含む、データを処理するためのあらゆる種類の装置、デバイス、及びマシンを包含してもよい。

A processing system may include special purpose logic circuitry, e.g., an FPGA (field programmable gate array) or an ASIC (application specific integrated circuit).
処理システムは、特殊用途論理回路、例えば、ＦＰＧＡ（フィールドプログラマブルゲートアレイ）又はＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）を含んでもよい。

A processing system may include, in addition to hardware, code that creates an execution environment for the computer program in question,
処理システムは、ハードウェアに加えて、当該コンピュータプログラムの実行環境を構築するコード、

e.g., code that constitutes processor firmware, a protocol stack, a database management system, an operating system, or a combination of one or more of them.
例えば、プロセッサファームウェア、プロトコルスタック、データベース管理システム、オペレーティングシステム、又はそれらの１つ又は複数の組み合わせを構成するコードを含んでもよい。

US2023010639(CORNING INC [US])
[0045] To control the delivery of media up through the fixed bed cell culture substrate,
【００２９】
  固定床の細胞培養基材を上方向に通過する培地の送達を制御するために、

a manifold 302 is molded in which the flow velocity can vary within the manifolding (where changes in velocity are of no importance)
マニホールド内部で流速が変化するようにマニホールド３０２を成形する（なお、マニホールド内での流速の変化は問題とならない）。

in order to deliver even flow throughout the volume of the fixed bed(s), thus creating a uniform flow environment throughout the cell culture zones. 
マニホールド３０２の成形は、（１つ又は複数の）固定床の体積全体に均一な培地流を送達し、細胞培養ゾーン全体に均一な培地流環境を構築するように行うことができる。

US2021141645(GOOGLE LLC [US])
[0012] FIGS. 3A-3E are schematic views of building an execution environment for executing a software application.
【図３Ａ】ソフトウェアアプリケーションを実行するための実行環境を構築する概略図である。