US11043858(A&I POWER GROUP INC [US])
Further, the strength an intensity of the magnetic fields may be the same for each of the three electromagnets or it may be different.
さらに、磁場の強さや強度は、3つの電磁石のそれぞれで同じであってもよいし、異なっていてもよい。
A single power supply may be used to provide the excitation voltage to all electromagnets in the system or separate power supplies may be used.
また、システム内のすべての電磁石に励起電圧を供給するために、単一の電源を使用してもよいし、別々の電源を使用してもよい。
In one embodiment of the invention, the rotor will circulate a 3-phase sinusoidal current with 120 degrees phase between each consecutive current signal.
本発明の一実施形態では、回転子が連続する各電流信号間の位相が120度の3相正弦波電流を循環させる。
The currents that change value over time will induce an EMF in the stator sections, which is equivalent to the rate of change in the magnetic flux.
時間変化する電流は、磁束の変化率に相当する起電力を固定子部に誘導する。
US10871471(BOEING CO [US])
[0129] As depicted, the magnetizing value is the strength of the magnetic field that high temperature superconductor 406 is exposed to as the temperature of high temperature superconductor 406 is reduced to an operating temperature.
図示のように、磁化値は、高温超伝導体406の温度が動作温度に低下するときに高温超伝導体406がさらされる磁場の強さである。
Further, in these illustrative examples, the magnetizing value may be greater than the desired value for the trapped magnetic field in high temperature superconductor 406 .
さらに、これらの実施例では、磁化値は、高温超伝導体406内のトラップ磁場の所望の値よりも大きくてもよい。
US2021223563(HUTCHINSON TECHNOLOGY [US])
Other embodiments include one or more hall sensors attached to the static member 2924 and one or more magnets attached to the moving member 2922 .
他の実施形態は、静止部材2924に取り付けられた1つまたは複数のホールセンサと、移動部材2922に取り付けられた1つまたは複数の磁石とを備えている。
The position of the moving member 2922 in relation the static member 2924 is determined by sensing changes in the strength of the magnetic field generated by the one or more magnets 2906 using the one or more hall sensors 2904 using techniques including those known in the art.
静止部材2924に対する移動部材2922の位置は、当技術分野で知られているものを含む技術を用いることで、1つまたは複数のホールセンサ2904を用いることによって、1つまたは複数の磁石2906によって発生する磁場の強さの変化を感知することによって判定される。
US10818561(APPLIED MATERIALS INC [US])
[0020] Accordingly, embodiments include a process monitoring device that allows for process monitoring to occur during the processing.
したがって、実施形態は、プロセスモニタリングを処理中に発生可能にするプロセスモニタリングデバイスを含む。
As such, embodiments eliminate the need for expensive metrology equipment and allow for real time analysis of the conditions on the substrate during the processing operations.
よって、実施形態は、高価な計測機器の必要性を排除し、処理動作中の基板上で条件のリアルタイム分析を可能にする。
Furthermore, embodiments allow for the analysis of a plurality of different process parameters at the same time.
更に、実施形態は、同時に複数の異なるプロセスパラメータの分析を可能にする。
For example, film thickness (e.g., during deposition or etching processes), presence or absence of particles, mass, substrate temperature,
例えば、膜の厚さ(例えば、堆積プロセス又はエッチングプロセス中の)、粒子の有無、質量、基板温度、
chuck temperature, surface charge, magnetic field strength, specific gas concentration, electron energy distribution function (EEDF) of a plasma, voltage direct current (VDC), or the like, or the like
チャック温度、表面電荷、磁場強度、特定ガス濃度、プラズマの電子エネルギー分布関数(EEDF)、電圧直流(VDC)などが、
may be monitored during a processing operation.
処理動作中にモニタされうる。
US11672187(IBM [US])
In various aspects, manganese nanoparticles embedded in a silicon matrix can be tuned in situ to a particular magnetic field strength by passing current through the matrix in the presence of an external magnetic field.
さまざまな態様において、外部磁場の存在下でマトリックスに電流を流すことにより、シリコン・マトリックスに埋め込まれたマンガン・ナノ粒子をin situで特定の磁場強度にチューニングすることができる。
US11049619(LOCKHEED CORP [US])
Frame 1 of FIG. 4 shows the baseline of the magnetic field prior to pulsing the magnetic reconnection coil 380 , i.e., at zero pulse coil current.
図4のフレーム1は、磁気再結合コイル380をパルス駆動する前、すなわち、ゼロパルスコイル電流での磁場のベースラインを例示している。
As shown, at the baseline, two adjacent magnetic fields 410 and 420 may be generated by internal magnetic coils 340 , having a single magnetic null 430 therebetween. Magnetic null points are locations where the magnetic field strength equals zero.
図示のように、ベースラインでは、単一磁場ヌル430を間に挟む2つの隣接磁場410と420を内部磁気コイル340によって発生させることができる。磁場ヌル点は、磁場強度がゼロに等しい場所である。