先日の記事でトイバーティノフマスクの改良版の製作記事を書きましたが、マスクパターン作成ツールの作者より、さきの改良版のパターンでは光軸ずれに対しては機能しないことが判明したとの連絡をいただきました。
さらに改良を行った第二改修版パターン作成ツールがすでに公開されています。
http://svg2.mbsrv.net/astro/tribm_sim2/tbmReportJ.html
早速、GS200RC用に作成です。
材料はコクヨのフラットファイルの表紙です。この厚さやと、カッターナイフで気軽にカッティング作業ができますね。
(実際の回折像)
せっかく時間をかけて光軸調整を行ったGS200RCなので、今回のマスクが光軸ずれを検出できるかどうかの確認(わざと光軸を狂わせること)はようしませんでした。
今度反射鏡を清掃する際にチャレンジすることにします。 いつになるやらわからんけど、