WO2012170778
1. An absorbent structure (13) for an absorbent article, comprising a supporting sheet (16) and an absorbent layer (17) supported thereon;
【請求項1】
支持シート(16)及びその上に支持された吸収性層(17)を備えた、吸収性物品の吸収性構造体(13)であって、
said absorbent layer (17) comprising an absorbent material (50) that contains at least a superabsorbent polymer material and optionally a cellulosic material;
前記吸収性層(17)は、少なくとも超吸収性ポリマー材料及び任意でセルロース材料を有する吸収性材料(50)を含んでおり、
said absorbent structure (13) and absorbent layer (17) having a longitudinal dimension and average length, and transverse dimension and average width, and a height;
当該吸収性構造体(13)及び前記吸収性層(17)は、長手方向の寸法及び平均の長さ、横方向の寸法及び平均の幅、並びに、高さを有しており、
said absorbent layer (17) having a longitudinal axis and perpendicular thereto a transverse axis;
前記吸収性層(17)は、長手方向の軸と、これに対して垂直な横方向の軸と、を有しており、
and said absorbent layer (17) having a first longitudinally extending side portion (20) on one side of said longitudinal axis, and a second longitudinally extending side portion (20) on the other side of said longitudinal axis;
前記吸収性層(17)は、前記長手方向の軸の一方の側において第1の長手方向に延在する側部(20)と、前記長手方向の軸の他方の側において第2の長手方向に延在する側部(20)と、を有しており、
and said absorbent structure (13) and said absorbent layer (17) thereof having a front region, back region and therein between a crotch region, each(*なぜ必要?)arranged sequentially in said longitudinal dimension;
前記吸収性構造体(13)及びその前記吸収性層(17)は、前記長手方向の寸法において順に設けられた、前方領域と、後方領域と、その間の股部領域と、を有しており、
whereby said absorbent layer (17) has at least a first substantially longitudinally extending channel (26) present in said first side portion,
前記吸収性層(17)は、少なくとも、前記第1の側部内に存在する第1の実質的に長手方向に延在するチャンネル(26)と、
and a second substantially longitudinally extending channel (26) present in said second side portion,
前記第2の側部に存在する第2の実質的に長手方向に延在するチャンネル(26)と、を有しており、
said channels (26) being substantially free of said superabsorbent polymer material and extending through said height of said absorbent layer (17);
前記チャンネル(26)は、前記超吸収性ポリマー材料を実質的に包含せず、前記吸収性層(17)の前記高さを通して延在しており、
and whereby said absorbent structure (13) comprises one or more adhesive materials (40; 60) to at least partially immobilize said absorbent layer (17) onto said supporting sheet (16).
当該吸収性構造体(13)は、少なくとも部分的に、前記支持シート(16)上へ前記吸収性層(17)を固定化させるように、1つ以上の接着材料(40;60)を備えている、吸収性構造体。
WO2016005929
The skilled reader will immediately appreciate from the attached drawings that the different embodiments of a magnetic base or stand 10, 1 10, 210, 310, 410 in accordance with the present invention share a number of features and similarities in that in each case base 10, 1 10, 210, 310, 410 comprises a pair of magnet units 12, 312 of identical construction and rating (as described below).
【0046】
本発明による磁気ベースあるいはスタンド10、110、210、310、410の異なる実施形態は、それぞれの場合において、ベース10、110、210、310、410が同一の構造及びレイティング(rating)(以下で述べるような)の一対の磁石ユニット12及び312を備えることにおいて多くの特徴点及び類似点を共有するということを、熟練した読者は、添付図から直ちに認識するだろう。
These magnet units 12 are mounted / secured to a support structure 14 (figure 1 - 7), 114 (figure 8-10), 214 (figure 1 1 ), 314 (figures 12 and 13) and 414 (figure 14)
これらの磁石ユニット12は、支持構造体14(図1-7)、114(図8-10)、214(図11)、314(図12、図13)、及び414(図14)に装着/固定され、
which in turn(*さらに、更に;大した意味無し)is provided with means for securing to it(*それに固定する)or otherwise integrating into it(*それに一体化する)a tool attachment or mounting structure 30, 130, 330 to it, for securing a power or other tool to base 10, 1 10, 210, 310, 410.
ここで支持構造体14には、ベース10、110、210、310、410に動力工具あるいは他の工具を固定するための、支持構造体14に固定するための手段、あるいは支持構造体14に工具アタッチメントあるいは装着構造30、130、330を統合する他のものが順に設けられる。
WO2008091307
14. The method of claim 13 including providing said strut pilot 43 with, in sequence, a pilot isolator 50, a pilot diffuser 52, a pilot flameholder 54, a pilot combustor 56 and a pilot nozzle 82.
【請求項14】
前記支柱パイロット43に、パイロットアイソレータ50と、パイロットディフューザ52と、パイロットフレームホルダ54と、パイロット燃焼器56と、パイロットノズル82とを順に設ける工程を含む、請求項13に記載の方法。
WO2008061356
1. An integrated-photonics arrangement implementable in III- V semiconductor material system comprising: a semiconductor substrate; the substrate for supporting epitaxial semiconductor growth;
【請求項1】
エピタキシャル半導体成長を支持する半導体基体と、
an epitaxial semiconductor structure grown on the semiconductor substrate; the epitaxial semiconductor structure grown in one growth step,
前記半導体基体上で1成長工程で成長したエピタキシャル半導体構造と、
and comprising a common designated waveguide; the common designated waveguide being at the bottom of the epitaxial semiconductor structure, and for supporting propagaiion of optical signals within a predetermined first wavelength range;
前記エピタキシャル半導体構造の底であって、予め定めた第1の波長範囲内での光信号の伝播を支える共通指定導波路と、
at least one a plurality of the wavelength designated waveguides, each of the plurality of wavelength designated waveguides being above the common designated waveguide,
複数の波長指定導波路の内の少なくとも1とを有するとともに、前記複数の波長指定導波路の各々は、前記共通指定導波路上であり、
the plurality of wavelength designated waveguides being vertically disposed in order of increasing wavelength bandgap,
前記複数の波長指定導波路は、増大する波長のバンドギャップの順に設けられ、
and each supporting a predetermined second wavelength range, each of the predetermined second wavelength ranges being within the predetermined first wavelength range;
各々は予め定めた第2の波長範囲を支え、前記予め定めた第2の波長範囲の各々は、前記予め定めた第1の波長範囲内にあるとともに、
at least a portion of one of the plurality of wavelength designated waveguides contains a vertical-lateral splitter;
前記複数の波長指定導波路の内の1の少なくとも一部は鉛直-横方向スプリッタを含有し、
the vertical-lateral splitter comprising a vertical element for coupling an optical signal within the predetermined second wavelength range of the one of the plurality of wavelength designated waveguides from the common des gnated waveguide to the one of the plurality of wavelength designated waveguides
該鉛直-横方向スプリッタは、前記共通指定導波路から前記複数の波長指定導波路の内の前記1に前記複数の波長指定導波路の内の前記1の前記予め定めた第2の波長範囲内で光信号を結合するための鉛直要素と、
and a lateral element for laterally routing the vertically coupled optical signal, and wherein
前記鉛直方向に結合した光信号を横方向に経路を定めるための横要素とを有し、
the common designated waveguide and the vertical element of the one of the plurality of the wavelength designated waveguides are optically aligned and defined along common propagation direction.
前記共通指定導波路および前記複数の波長指定導波路の内の前記1の前記鉛直要素は、共通伝播方向に沿って光学的に配列されかつ形成された、第III族-第V族半導体物質系で実施可能な集積化光通信装置。
WO2008057376
20. The apparatus of claim 19 further including additional sequences of said first fiber deposition station (36, 142);
【請求項20】
前記フレーム(12)と動作上の関係にあり、順に設けられた、前記第1の繊維堆積ステーション(36、142)と、
said slurry feed station (44, 78),
前記スラリー供給ステーション(44、78)と、
said second fiber deposition station (66, 82)
前記第2の繊維体積ステーション(66、82)と、
and said embedment device (136) provided(*上記3つのステーションと埋込装置それぞれに係っているが、which areとはしていない)in operational relationship to said frame (12) in sequence to provide a structural cementitious panel having multiple layers, each of which with multiple layers of embedded fibers.
前記埋込み装置(136)の追加シーケンスをさらに含み、それぞれ繊維が埋め込まれている複数の層を有する構造用セメント系パネルを提供する、請求項19に記載の装置。