ショットピーニング

WO2015123673
Shot peening is a mechanical surface treatment having the objective of enhancing the resistance of mostly metallic components or workpieces that are subjected to cyclic loadings, wear, and corrosion and other life time reducing influences.
【０００３】
  ショットピーニングは、繰返し荷重、摩耗、及び腐食と、その他の寿命を短縮する作用の下に供される、ほとんど金属の構成要素又は加工物の、耐性を高める目的を持つ機械的表面処理である。

During the shot peening process, the abrasive medium, also called shot medium, is propelled onto the surface of a workpiece. The impact of the medium dimples the surface of the workpiece.
ショットピーニングプロセス中、ショット媒体とも呼ばれる研磨媒体を、加工物の表面へと推進させる。媒体の衝撃が、加工物の表面に窪みを作る。

The restoring force below the dimple in the workpiece results in a hemisphere of material that is relatively highly stressed in compression and a compressive residual stress field develops over the peened surfaces as the dimples overlap during the peening process.
加工物の窪みの下の復元力は、圧縮で比較的高い応力がかかった材料の半球をもたらし、ピーニングプロセス中に窪みが重なるにつれて、ピーニングされた表面全体に圧縮残留応力場が発生する。

Such generated compressive stresses can provide a wide variety of benefits to a workpiece.
そのような発生した圧縮応力は、広く様々な利益を加工物に提供することができる。

For example, the useful life time of a workpiece may be increased under cyclical loads or stresses caused by corrosion from stress cracking, friction, cavitation, galling, erosion and wear, as well as combinations of these kinds of stresses.
例えば、加工物の有用な寿命は、応力亀裂による腐食、摩擦、キャビテーション、かじり、浸食、及び摩耗、並びにこれらの種類の応力の組合せによって引き起こされた、繰り返される荷重又は応力の下で延びる可能性がある。

It is commonly assumed that these benefits are caused by the presence of the compressive stresses on the surface of the workpiece, since such stresses reduce the tendency of surface crack formation and or crack propagation.
一般にこれらの利益は、加工物の表面での圧縮応力の存在によって引き起こされると想定されるが、それはそのような応力が、表面亀裂形成又は亀裂伝搬の傾向を低減させるからと考えられる。

WO2013166029
Impacting the surface of the wire 396, 397 used for creating the torsion springs 134, 136 with projectiles, or 'shot peening' is used to put residual compressive stress in the surface of the wire 396, 397.
【０１５０】
  ねじりバネ１３４、１３６を形成するためのワイヤ３９６、３９７の表面に投射物を衝突させること、または「ショットピーニング」が、ワイヤ３９６、３９７の表面に残留圧縮応力を付加するために使用される。

The wire 396, 397 is then wound into the torsion springs 134, 136.
次いで、ワイヤ３９６、３９７は、巻回されてねじりバネ１３４、１３６となる。

Due to their shot peening, the resulting torsion springs 134, 136 can now accept more tensile stress than identical springs made without shot peening.
このようなショットピーニングにより、結果として生じるねじりバネ１３４、１３６は、ショットピーニングを行うことなく形成された同等のバネよりも大きな引張応力を受け入れることが可能となる。

US2020206871(JP)
[0007] An apparatus for treating a surface of a first aspect of the present invention that treats an object to be processed while transporting the object on a line for treating a surface,
【０００６】
  本発明の第１の態様に係る表面処理装置は、被処理対象物を表面処理ラインで送りながら処理する表面処理装置であって、

wherein the line for treating the surface includes an area for pre-cleaning, an area for projecting, and an area for post-cleaning,that are arranged from an upstream side.
前記表面処理ラインには上流側から前洗浄エリア、投射エリア、後洗浄エリアを含み、

The apparatus has a first cleaning device that cleans the object to be processed at the area for pre-cleaning.
前記前洗浄エリアにおいて被処理対象物を洗浄する第一洗浄装置と、

It also has a shot-peening machine that carries out shot peening by shooting shots on the object to be processed at the area for projecting.
前記投射エリアにおいて被処理対象物に対して投射材を投射してショットピーニング処理を施すショットピーニング装置と、

It also has a second cleaning device that cleans the object to be processed at the area for post-cleaning.
前記後洗浄エリアにおいて被処理対象物を洗浄する第二洗浄装置と、

It also has first detecting devices that count, at upstream sides of the line for treating a surface of the area for pre-cleaning, the area for projecting, and the area for post-cleaning, a number of objects to be processed that are carried into the respective areas and that detect the conditions of the surfaces of the objects to be processed.
前記前洗浄エリア、前記投射エリア、及び前記後洗浄エリアの各々における前記表面処理ラインの上流側において、各エリアに搬入される被処理対象物の個数をそれぞれカウントすると共にその被処理対象物の表面の状態を検出する第一検出装置と、

It also has second detecting devices that count at downstream sides of the line for treating a surface of the area for pre-cleaning, the area for projecting, and the area for post-cleaning, a number of objects to be processed that are carried out of the respective areas and that detect the conditions of the surfaces of the objects to be processed.
前記前洗浄エリア、前記投射エリア、及び前記後洗浄エリアの各々における前記表面処理ラインの下流側において、各エリアから搬出された被処理対象物の個数をそれぞれカウントすると共にその被処理対象物の表面の状態を検出する第二検出装置と、を有する。

WO2017075234
[191] In a third work area 1724c, a peening process may be manually or robotically applied to one or more parts.
【０１３９】
  第３の作業領域１７２４ｃにおいて、ピーニング工程が１つ以上の部品に手動又はロボット制御で適用されてもよい。

For example, in selected embodiments, a manual or robotic system may use the same granular material (i.e., the same granular material used to create the parts) as a shot media in a peening process to improve a surface finish of the parts.
例えば、選りすぐりの実施形態では、手動又はロボットシステムは、部品の表面仕上げを向上させるためのピーニング工程において、投射材と同じ粒状材料（すなわち、部品を作り出すために用いられた同じ粒状材料）を用いてもよい。

US2021129290(JP)
[0047] The loading chamber 20 A is a chamber for use in loading of a workpiece W into the cabinet 12 . The unloading chamber 20 B is a chamber for use in unloading of the workpiece W from the cabinet 12 .
【００３９】
  搬入室２０Ａは、被処理対象物Ｗをキャビネット１２に搬入するための室である。搬出室２０Ｂは、被処理対象物Ｗをキャビネット１２から搬出するための室である。

The inspection chamber 22 A is a chamber for use in inspection of surface properties of the workpiece W before being subjected to shot peening.
検査室２２Ａは、ショットピーニング処理が行われる前の被処理対象物Ｗの表面特性を検査するための室である。

The inspection chamber 22 B is a chamber for use in inspection of the surface properties of the workpiece W after being subjected to shot peening.
検査室２２Ｂは、ショットピーニング処理が行われた後の被処理対象物Ｗの表面特性を検査するための室である。

The shot chambers 24 A and 24 B are chambers in which the shot media is ejected to the workpiece W.
投射室２４Ａ，２４Ｂは、投射材が被処理対象物Ｗに投射される室である。

In a lower section of the inside of the cabinet 12 , a product placement part 18 is provided on which the workpiece W is placed. Details of the product placement part 18 will be described later.
キャビネット１２の内部における下部には、被処理対象物Ｗが載置される製品載置部１８が設けられている。製品載置部１８については詳細後述する。

窒化処理

US9067833
[0013] Hattori et al. (U.S. 2006/0283290) describe silica coated, nitrided iron particles having an average particle diameter of 5 to 25 nm.
【００１１】
  服部ら（米国特許出願公開第２００６／０２８３２９０号）は、窒化処理した平均粒径が５～２５ｎｍの鉄粒子をシリカで被覆したもの記載している。

The particles are “substantially spherical” and are useful for magnetic layers such as a magnetic recording medium.
この粒子は、「実質的に球形」であり、磁気記録媒体などの磁性層に役立つ。

US6676724
The present invention resides in an improved powder metal engine component particularly suited for use as a valve seat insert.
【００１５】
  本発明は弁座インサートとしての使用に特に適した改良された粉末金属エンジン構成要素に属する。

The powder metal valve seat insert according to the present invention offers superior properties of abrasive and adhesive wear resistance, high temperature resistance, hot hardness and machinability.
本発明による粉末金属弁座インサートは、耐アブレシブ磨耗および耐凝着摩耗、耐高温性、熱間硬度および機械加工性について優れた特性を示す。

The powder metal valve seat insert in accordance with the present invention is useful in a wide variety of internal combustion engine applications such as in a heavy duty truck application or even in a light duty passenger car application.
本発明による粉末金属弁座インサートは、重荷重のトラック用途あるいは場合によっては軽荷重の乗用車用途などの広範囲の内燃機関応用に有用である。

It can be employed with various types of valve materials including hard-faced and nitrided valves.
これは表面硬化処理および窒化処理した弁を含む様々なタイプの弁材質に用いることができる。

US9793098
Second module 158 ionitrides the substrate surfaces to be coated in nitrogen or argon-nitrogen mix RAAD plasma generated between the cathode in a shielded cathode chamber and remote anode. 
第２のモジュール１７８は、シールドされた陰極チャンバー内の陰極と遠隔陽極との間に生成された窒素、又はアルゴン窒素混合物の遠隔陽極アーク放電（ＲＡＡＤ）プラズマ中で、被覆される基板表面をイオン窒化処理する。

WO2010144789
In other aspects, the upper mold surface comprises a nickel-iron alloy having a coefficient of thermal expansion of at most 5.O x 10^"6 in/in/°F at temperatures between 100° and 500°F that has undergone a nitriding treatment.
【００２３】
  他の態様では、金型上面は、１００°乃至５００°Ｆの温度で最大５．０×１０^－６ｉｎ／ｉｎ／°Ｆの熱膨張係数を有する、窒化処理された鉄ニッケル系合金を含有する。

In certain of these aspects, the nitriding treatment is ion nitriding.
特定のこれらの態様では、この窒化処理は、イオン窒化処理である。

WO2010144786
In certain aspects, the grain texture has a depth of 0.005 to 1.0 mm, and in other aspects, the grain texture has a depth of 0.1 to 0.4 mm.
【００３８】
  特定の態様では、シボ構造は、０．００５乃至１．０ｍｍの深さを有し、他の態様では、このシボ構造は、０．１乃至０．４ｍｍの深さを有する。

In certain aspects, the surface treatment comprises ion nitriding the upper mold surface.
【００３９】
  特定の態様では、この表面処理は、金型上面をイオン窒化処理するステップを含む。

 

In other aspects, the surface treatment comprises aluminizing the upper mold surface and then nitriding the upper mold surface.
他の態様では、この表面処理は、金型上面をアルミメッキし、その後金型上面を窒化処理するステップを含む。

制御を解除

EP2941215
[0054] In one embodiment, the exit boundary 64 is planar, located a distance L from entry boundary 50 (see FIG. 7A), and has an exit normal 59.
【００３８】
  一実施形態では、終了境界６４は、開始境界５０（図７Ａ参照）から距離Ｌだけ離れた位置にある平面であり、終了法線５９を有する。

During haptic control mode, the surgical system 100 continuously calculates the distance from HIP 60 to exit boundary 64.
触覚制御モードにある間、手術システム１００は、ＨＩＰ６０から終了境界６４までの距離を継続的に計算する。

Because exit normal 59 points away from the patient's anatomy, the distance from HIP 60 to the exit boundary 64 will typically be negative during performance of bone modifications (e.g. cutting, drilling).
終了法線５９は、患者の人体から離れる方向を向いているので、ＨＩＰ６０から終了境界６４までの距離は、骨の修正（例えば、切削、掘削）が行われている間は、通常、負の値を示す。

However, when the value of this distance becomes positive, haptic control is released by deactivation of haptic object 52, and the haptic device 30 enters free mode.
しかしながら、この距離の値が正の値になるとき、触覚制御は、触覚対象物５２の停止により解除され、触覚装置３０はフリーモードに入る。

In other embodiments, the exit boundary 64 can be curved, three-dimensional, or any configuration or shape appropriate for interacting with HIP 60 to disengage haptic control during a surgical procedure.
他の実施形態では、終了境界６４は、手術中に触覚制御を解除可能な様に、曲線状、三次元、あるいは、ＨＩＰ６０との相互作用に適した如何なる構成や形状も採ることができる。

WO2019040888
[0044] When the gas/water valve 130 is in use, the first configuration
【００３６】
[0044]  ガス／水弁１３０が使用中である時、第１構成は、

allows gas to pass from the control unit 150, through the gas inlet port and into a central location within the receiving cylinder between two seals on the valve stem, and exit the gas/water valve 130 to the atmosphere through the vent (also referred to as the release hole) in the center of the gas/water valve 130.
ガスが、制御ユニット１５０からガス入口ポートを通って弁棒における２つのシール間の受け筒内の中央位置へと移動すること、及びガス／水弁１３０の中央にある（放出孔とも称される）通気口を通ってガス／水弁１３０から大気中へ出ることを可能にする。

In some embodiments, the first configuration is the baseline or default configuration because it is the configuration maintained when the user is not actively interacting with the gas/water valve 130.
いくつかの実施形態において、第１構成は、ユーザがガス／水弁１３０と能動的に相互作用していない時に維持される構成であるため、ベースライン又はデフォルト構成である。

In other words, when the user completes a task, such as moving the distal portion of the endoscopic handle 110 into position related to an organ, and releases the operational controls,
言い換えると、ユーザが、例えば内視鏡ハンドル１１０の遠位部を器官に関連する位置へ動かすことなどの作業を完了し、動作制御を解除すると、

the gas/water valve 130 will return to the first configuration.
ガス／水弁１３０は、第１構成に戻る。

The gas/water valve 130 can also be maintained in the first configuration while other functions or controls of the endoscopic system 100 are being manipulated or engaged by the user.
ガス／水弁１３０は、ユーザによって内視鏡システム１００の他の機能又は制御が取り扱われ、又は行われている間も第１構成に維持され得る。

WO2019023086
[0021] The control components 114 may be configured to outfit the instrument panel 112 for its control and monitor functions.
【００１３】
    制御構成要素１１４は、計器パネル１１２をその制御及び監視機能のために取り付けるように構成されることができる。

These configurations may embody individual devices or combinations thereof.
これらの構成は、個々の装置またはそれらの組み合わせを具体化することができる。

The devices can serve to regulate flow of operating fluids (e.g., gasses and liquids) to operate the pneumatic device.
これらの装置は、作動流体（たとえば、気体及び液体）の流量を調整し、空気圧式装置を操作するように機能することができる。

Others may serve to indicate status of these operating fluids, the valve 106, and the flow of material 110.
他のものは、これらの作動流体、弁１０６、及び材料１１０の流量の状態を示すように機能することができる。

Still other may serve to override operation of the actuator 104 or the valve 106, for example, in situations where loss of pressure of the operating fluid prevents appropriate positioning of the closure member.
さらに他のものは、たとえば、作動流体の圧力損失が閉鎖部材の適切な位置決めを妨げる状況において、アクチュエータ１０４または弁１０６の操作の自動制御を解除するように機能することができる。

US8046096
[0013] In order to effectively manage the central processing unit (CPU) and memory resources of the control device in which the process control routines and analytical server are implemented,
【００１４】
  プロセス制御ルーチンおよび分析サーバが実施される制御装置の中央処理装置（CPU）およびメモリ資源を効率よく管理するために、

the analytical server provides an interface to the real-time control routines to allow the control routines to make a call to request that an algorithm to be performed on a collection of process data.
分析サーバは、制御ルーチンが、プロセスデータの収集時にアルゴリズムを実行するようにとの要求に呼出しをかけることを可能にするために、実時間制御ルーチンにインターフェースを提供する。

These requests may be prioritized and queued, so that
これらの要求は優先順に編成され待ち行列に加えられ、その結果、

the analytical server is then able to execute the requested algorithms using the collected data asynchronously with respect to the operation of control routines within the control device.
分析サーバは、制御装置内の制御ルーチンの動作に関する収集データを非同期に使用して、要求されたアルゴリズムを実行することができる。

Moreover, the operation of the analytical server may be isolated from the operation of the on-line control system
なおまた、分析サーバの動作は、オンライン制御システムの動作から分離し、

to thereby free the on-line control to collect data for another learning iteration at the same time the current data is being analyzed by the analytical server.
それによって、新しいデータが分析サーバにより分析されると同時に別の学習反復用にデータを収集するためにオンライン制御を解除する。

Once the analytical server has completed the requested operation, the generated data or results are returned to the on-line control system, i.e., to the control routines.
一旦分析サーバが要求された動作を完了したならば、生成データ又は結果がオンライン制御システム（すなわち、制御ルーチン）に送り返される。

WO2017053785
FIG. 15 shows an example of a method 1500 where an obstacle-stopped motion of a dual -hinge closure can be overridden by holding an external or internal control.
【００８５】
  図１５は、外部または内部の制御装置を保持することによって、デュアルヒンジクロージャの障害物停止動作を無効にすることができる方法の一例１５００を示す。

At 1510 the DHC is being opened. At 1520, an obstacle is contacted and/or detected.
１５１０でＤＨＣが開いている。１５２０で、障害物が接触および／または検出される。

At 1530, the DHC is therefore stopped.
したがって、１５３０でＤＨＣが停止する。

For example, this can be accompanied by a suitable alert to the driver or other passenger.
例えば、これは運転者または他の乗客への適切な警報を伴うことができる。

At 1540 at least one input control, such as an external or internal switch, is continuously actuated by the person.
１５４０で、外部スイッチまたは内部スイッチなどの少なくとも１つの入力制御が人によって連続的に作動される。

At 1550, the opening of the DHC continuous based on such input.
１５５０で、そのような入力に基づいてＤＨＣは連続して開いている。

For example, this can allow a person to continue opening or closing the DHC if the person knows that no damage is being done, such as if the DHC moves into contact with vegetation that can safely be pushed out of the way by the DHC.
例えば、これはＤＨＣが動いてＤＨＣによって安全に押しのけられる植生と接触する場合など、ダメージを受けていないことを人が知っている場合に、人がＤＨＣの開閉を継続することを可能にすることができる。

At 1560, the person releases the input control, and the DHC is therefore stopped at 1570.
１５６０で人は入力制御を解除し、したがって１５７０でＤＨＣは停止する。

明るく、暗く撮像

EP1228486
"31. The apparatus claimed in claim 30 wherein the object is provided with one or more holes and bottom illumination therethrough supplementing top illumination for the two-camera imaging, and means is provided for differentiating glint images through imaging holes dark on the camera focused on the top surface and bright on the bottom surface."

物体に１つ以上のホールがあり、それを通る下部照明が、２－カメラ撮像のために上部照明を補うようになっており、上部表面に焦点を合わせられたカメラではホールが暗く撮像され、下部表面に焦点を合わせられたカメラではホールが明るく撮像されることによって、グリント画像を識別するための手段を具備する、請求項３０の装置。

US7867169
"FIG. 12 shows a perspective transverse view of the catheter of FIG. 9, through portion 72a, and looking proximally so that the proximally spaced portions 72b-d are also visible, to illustrate the direct reflection of sound waves from an ultrasonic imaging probe 80.
図１２は、超音波撮像プローブ８０からの音波の直接反射を示すために、近位に間隔を空けて置かれる部材７２ｂ～ｄが見えるように、かつ近位を向く図９のカテーテルの部材７２ａを通る斜視横図を示す。

The portion 72a that is directly in the path of the sound wave and presents a face surface that can directly reflect an echo back to the probe 80, will be imaged the brightest.
音波経路内に直接あり、かつエコーをプローブ８０へ直接反射できる面を見せている部材７２ａは、最も明るく撮像される。

The portion 72c on the side of the catheter opposite to the ultrasonic imaging probe 80 will produce a direct reflection, but
超音波撮像プローブ８０と反対のカテーテルの側の部材７２ｃは、直接反射を生成するが、

because the sound waves that hit it and its reflected echo must pass thru the catheter body,
それにぶつかる音波、及びその反射エコーが、カテーテル本体を通過せねばならないので、

its echo will have a small amplitude and be displayed much less bright (or not at all) than the portion 72a
そのエコーは、小さな振幅を有し、かつ部材７２ａよりも遙かに暗く（又は全く明るくなく）表示される

(some of the sonic energy is reflected off the catheter body/blood interface and some of the sonic energy is dissipated as heat in the plastic catheter body).
（音響エネルギーの幾つかは、カテーテル本体／血液界面から反射され、かつ音響エネルギーの幾つかは、プラスチックカテーテル本体内で熱として散逸する）。

The two portions, 72b and 72d, which are 90 degrees from the portion 72a (i.e., the face surface of each portion 72b and 72d is oriented at 90 degrees from the path of the sound wave)
部材７２ａから９０度の２つの部材７２ｂと７２ｄ（すなわち各部材７２ｂと７２ｄの面が音波経路から９０度の向きに配向される）は、

will produce an echo directed away from the ultrasonic imaging device probe and will therefore not be imaged. 
超音波撮像装置プローブから離れるように向けられるエコーを生成し、かつそれ故に撮像されない。

EP2764376
"Thereafter, parametric representations of edges on the exposed first metal layer and partially exposed second metal layer are extracted.
その後、露出した第１のメタル層と部分的に露出した第２のメタル層のエッジ（複数）のパラメトリック表現が抽出される。

The extracted edges are assigned to parametric representations on the first metal layer or the second metal layer based on brightness of the respective images.
抽出されたエッジは、その画像における明度に基づき、第１のメタル層又は第２のメタル層についてのパラメトリック表現に割り当てられる。

This is achieved because, as will be explained below, although the scanning electron microscope has a depth of field adequate to capture an image of both the exposed first metal layer and partially exposed second metal layer,
これは、後述するように、走査型電子顕微鏡が露出した第１のメタル層と部分的に露出した第２のメタル層の両方を写す一枚の画像を取得するのに十分な被写界深度を有しているとはいっても、

the exposed first metal layer is brighter in the image than the partially exposed lower layer.
露出した第１のメタル層は、当該画像においては部分的に露出した第２のメタル層よりも明るく撮影されるためである。

 

RFID付き

EP2987117
[0015] There are however shelving applications where an RFID enabled cabinet such as shown in Figure 34 of WO2007030861 may be advantageous to use rather than a relatively large fixed RFID shelving installations.

【００１４】
  ＷＯ２００７／３０８６１の図３４に記載のＲＦＩＤ付きのキャビネットが、比較的大きな固定されたＲＦＩＤ付きの陳列棚よりも有利であるような用途が存在する。

 

US10592951
(Ab)
Methods and apparatus to visualize locations of radio frequency identification (RFID) tagged items are described. One example method includes receiving a request from a portable electronic device to access product information associated with an individual radio frequency identification (RFID) tagged item, determining a location of the product information in a database, transmitting the located product information to the portable electronic device for display thereon, receiving modified product information associated with the individual RFID tagged item from the portable electronic device, and storing the modified product information to the location of the product information in the database.

US7102521
A tag serves to identify the thing to which it is attached. RFID tags can be attached to items to aid in their identification, speed checkout processing in a retail environment and aid in inventory management. The RFID tag is scanned or “interrogated” using radio frequency electromagnetic waves. Interrogating the RFID tag with radio waves allows the interrogator to be out of direct line-of-sight of the tagged item and to be potentially located at a greater distance from the item than is permitted with optical scanning.

1. A system for identifying RFID-tagged items, comprising:

one or more interrogator units capable of communicating over a network, the interrogator unit comprising a hanger support upon which RFID-tagged items are stored, the hanger support further comprising one or more solenoid coils aligned with the hanger support's longitudinal axis;

a computer capable of communicating over the network; and

an inventory database indexable by item identification, including the ordering of the items on the hanger support, and capable of communicating over the network.