生じる負荷

US2023086155(FIBERLITE CENTRIFUGE LLC [US])
[0104] The radially inwardly-facing surface of sidewall 114 and the torque transfer members 134 of rotor body 22 may oppose loads caused by acceleration of the receptacles 100 during centrifugation.
【００９６】
  側壁１１４の半径方向内向きの表面及びロータ本体２２のトルク伝達部材１３４は、遠心分離中のレセプタクル１００の加速によって生じる負荷に対抗し得る。

Each receptacle 100 may thereby be independently supported within the rotor 10 by the base 112 , sidewall 114 , and a pair of circumferentially adjacent torque transfer members 134 of rotor body 22 . 
これにより、各レセプタクル１００は、ベース１１２、側壁１１４、及びロータ本体２２の一対の円周方向に隣接するトルク伝達部材１３４によって、ロータ１０内で独立して支持され得る。

US2023170199(MASSACHUSETTS INST TECHNOLOGY [US])
[0004] Disclosed embodiments include magnet plates stacked in a pattern that is a function of the expected operational field strength at different positions in the stack, thereby ensuring that the resulting loads always are directed into the grooves, and thus onto the structural plate itself. 
【０００３】
  開示される実施形態は、積層体の異なる位置における予想動作磁界強度に応じたパターンに積層され、それにより、結果として生じる負荷が常に溝に向かい、したがって構造プレート自体にかかることを確実にするマグネットプレートを含む。

US10709206(NIKE INC [US])
[0044] Fulcrum element 34 is attached to top surface 33 of lower support plate 29 . Fulcrum element 34 is positioned between FSRs 31 and 32 in a front portion of bottom support plate 29 .
【００２１】
  支点要素３４は、下側支持板２９の上面３３に取り付けられる。支点要素３４は、底支持板２９の前部においてＦＳＲ３１と３２との間に位置する。

Fulcrum element 34 may be formed from polyurethane, silicon rubber, EVA, or from one or more other materials that are generally incompressible under loads that result when a wearer of shoe 10 runs.
支点要素３４は、ポリウレタン、シリコンゴム、ＥＶＡ、または、シュー１０の着用者が走る時に生じる負荷の下で通常圧縮しない１または複数の他の材料で形成され得る。

Fulcrum element 34 provides resistance to transverse and longitudinal forces applied to the incline adjuster 16 .
支点要素３４は、傾斜アジャスタ１６に加わる横力および縦力への抵抗をもたらす。

US10258842(KARSTEN MFG CORP [US])
As such, when the adhesive retaining strength of the adhesive material 68 is at least equal to the working strength,
このように、接着材料６８の接着剤保持強度が少なくとも使用強度に等しい場合、

the adhesive retaining strength, alone, is sufficient to withstand a load experienced between the face 22 of the golf club head 10 and a golf ball, at the desired swing speed of at least 150 miles per hour (mph). 
接着剤保持強度のみで、少なくとも１５０マイル／時（ｍｐｈ）の所望のスイング速度でゴルフクラブヘッド１０のフェース２２とゴルフボールとの間に生じる負荷に耐えるのに十分である。

US2022257323(CORINDUS INC [US])
Drag loads refer to loads caused by cables and/or tubing and/or other components imparting a resistive load to load-sensed component 118 . 
障害負荷とは、被負荷検知コンポーネント１１８に抵抗負荷を加えるケーブル及び／又はチューブ及び／又は他のコンポーネントによって生じる負荷をいう

伸縮可能に

US2023101562(JOA CURT G INC [US])
[0073] A pair of side sheets 38 is disposed at least in part along widthwise outer sides of the disposable product 24 and substantially symmetrically with respect to an axis of symmetry 40 extending along the widthwise center of the disposable product 24 .
【００７２】
  一対のサイドシート３８が、使い捨て製品２４の幅方向外側に少なくとも部分的に沿って、かつ使い捨て製品２４の幅方向中心に沿って延びる対称軸４０に対して実質的に対称に配置されている。

In an elasticized region of each side sheet 38 , a three-dimensional gather or leg cuff 42 is formed to create an erectile gather capable of rising toward the wearer.
サイドシート３８の弾性領域には、立体ギャザー又はレッグカフ４２が形成されており、着用者に向かって立ち上がることができる起立性のギャザーを形成している。

The leg cuff 42 is composed of a portion of the side sheet 38 and one or more side resilient members 44 joined thereto.
レッグカフ４２は、サイドシート３８の一部と、これに接合された１つ以上のサイド弾性部材４４とから構成されている。

The side resilient members 44 are configured to expand and contract in the front-back direction L and are disposed on inner edge sides of the side sheets 38 . 
サイド弾性部材４４は、前後方向Ｌに伸縮可能に構成されており、サイドシート３８の内縁側に配置されている。

US10359594(GO!FOTON HOLDINGS INC [US])
 Sections 41 a, 43 a may be configured and adapted to slide within sections 41 b, 43 b respectively, where the ports 7 may be coupled to the sections 41 b, 43 b, to effect lengthening or shortening of the connections means 16 .
交互配列部４１ａ，４３ａは、ポート７を連結することができる交互配列部４１ｂ，４３ｂ内をそれぞれ摺動するように構成かつ適合されており、これにより、接続手段１６を伸縮可能に構成されている。

A resilient or biasing member (not shown) may be placed within a hollowed out center of each of the rails 41 , 43 to bias the connection means 16 to one of the first or second dimensions W1 , W2 , respectively.
各レール４１，４３の中空の中心部内に、弾性部材または付勢部材（図示省略）を設けても良い。これにより、接続手段１６を第１の寸法Ｗ_１か第２の寸法Ｗ_２のいずれかに付勢しておくことができる。

US2022349695(UNIV CARNEGIE MELLON [US])
 In addition, the use of microscale magnetic particles 104 can reduce the intensity of internal stress concentrations when a mechanical load is applied to the magnetic material 101 and also allows for the material 101 to be flexible and/or stretchable.
また、マイクロスケールの磁性粒子１０４を使用することで、磁性材料１０１に機械的な負荷が加わる場合における内部応力集中の強度を低減することができ、更に、材料１０１を柔軟及び／又は伸縮可能にすることができる。

For example, when large magnets are embedded in an elastomer, delamination at the interface between the hard magnet and soft elastomer can occur under mechanical load due to the difference in compliance between the two materials.
例えば、大型の磁石がエラストマーに埋め込まれる場合には、機械的な負荷が加わると、硬い磁石と柔らかいエラストマーの界面で、２つの材料のコンプライアンスの違いに起因して剥離が発生し得る。

Moreover, such embodiments can allow for geometries that are thin and/or contain sharp 3D geometries.
更に、このような実施形態では、薄い及び／又はシャープな３Ｄのジオメトリを含むジオメトリを実現できる。

US11561578(VALVE CORP [US])
In some instances, the slide may traverse within the housing and telescopically extend to elongate and retract within the housing as the user tightens and loosens the HMD.
場合によっては、スライドは、ハウジング内を横断し、伸縮可能に延在して、ユーザがＨＭＤを締め付け、緩めるにつれて、ハウジングから伸長しその中に後退するようにしてもよい。

粗推定

US11394447(IDAC HOLDINGS INC [US])
[0106] FIG. 10 is a flow diagram 1000 of an example method of beamforming and scheduling.
【００９３】
  図１０は、ビーム形成およびスケジューリングの例示的な方法の流れ図１０００である。

In the example illustrated in FIG. 10, a WTRU 1002 performs a RACH procedure ( 1006 ) with an mB 1004 .
図１０に示された例において、ＷＴＲＵ１００２は、ｍＢ１００４とのＲＡＣＨ手順を実施する（１００６）。

As described in more detail below, the WTRU 1002 may perform random access with multiple transmit beams or steering vectors to obtain an initial coarse estimate for a preferred UL wide beam and timing advance. The WTRU 1002 may then enter RRC connected mode ( 1008 ). 
以下でより詳細に説明されるように、ＷＴＲＵ１００２は、好ましいＵＬ広ビームおよびタイミングアドバンスについて最初の粗推定を取得するために、多数の送信ビームまたはステアリングベクトルを用いてランダムアクセスを実施することができる。

US11644548(TOPCON POSITIONING SYSTEMS INC [US])
[0064] The plurality of subcarriers provide virtual channels by which laser transmitter 102 can transmit data to laser receiver 104 (as well as other laser receivers not shown in FIG. 1 ).
【００６３】
  複数の副搬送波は複数の仮想チャンネルを提供し、これらの仮想チャンネルによってレーザー送信機１０２は、レーザー受信機１０４（更に、図１に示されていないその他のレーザー受信機）にデータを送信する。

Virtual channels are independently modulated signals, and the number of virtual channels correspond to the number of subcarriers.
これらの仮想チャンネルは、それぞれ独立して変調された信号であり、仮想チャンネルの数は副搬送波の数に対応する。

The virtual channels are extracted by multiplying the subcarrier phase vector (e.g., subcarrier phase vector {P1, P2, P3, P4} for four subcarriers) to the demodulation matrix (e.g., the matrix of table 900 of FIG. 9 ).
これらの仮想チャンネルは、副搬送波位相ベクトル（たとえば４つの副搬送波についての副搬送波位相ベクトル｛Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４｝）を、復調マトリックス（たとえば図９の表９００のマトリックス）に乗算することによって抽出される。

In one embodiment, one or more virtual channels may be used to transmit a coarse estimation of the horizontal angle associated with laser receiver 104 without ambiguity. 
一実施形態では、曖昧さなしにレーザー受信機１０４と関連付けられた水平角度の粗推定を送信する目的で、１つ又は複数の仮想チャンネルを使用することが考えられる。

体感品質

US2022279385(ERICSSON TELEFON AB L M [SE])
(Title)
Technique for Reporting Quality of Experience (QOE) - And Application Layer (AL) Measurements at High Load
高い負荷における体感品質（ＱｏＥ）測定およびアプリケーションレイヤ（ＡＬ）測定を報告するための技法

The present disclosure generally relates to a technique for Quality of Experience measurements or Application Layer measurements.
【０００１】
  本開示は、一般に、体感品質測定またはアプリケーションレイヤ測定のための技法に関する。

More specifically, and without limitation, methods and devices are provided for Quality of Experience measurements or Application Layer measurements at high load in a radio access network.
より詳細には、限定はしないが、無線アクセスネットワークにおける高い負荷における体感品質測定またはアプリケーションレイヤ測定のための方法およびデバイスが提供される。

US10673921(SSIMWAVE INC [CA])
(Title)
Method and system for automatic user quality-of-experience measurement of streaming video
ストリーミング・ビデオの自動体感品質測定のための方法及びシステム

 

時刻、時間

US11368469(GOOGLE LLC [US])
[0048] In some implementations, the event report is in the form of an attestation token.

【００４４】
  いくつかの実装形態では、イベントレポートは認証トークンの形式である。

The trusted program 114 can generate the attestation token in response to detecting the location event.
信頼できるプログラム114は、位置イベントの検出に応答して認証トークンを生成することができる。

The attestation token can include a set of data and a digital signature generated based on the set of data.
認証トークンは、データのセットと、データのセットに基づいて生成されたデジタル署名を含むことができる。

The set of data can include a device public key of the client device 110 , an attestation token creation time that indicates a time at which the attestation token is created by the trusted program 114 , a device integrity token issued by the fraud detection system 170 , and payload data.
データのセットは、クライアントデバイス110のデバイス公開鍵、認証トークンが信頼できるプログラム114によって作成される時間を示す認証トークン作成時間、不正検出システム170によって発行されたデバイス整合性トークン、およびペイロードデータを含むことができる。

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 The data of the device integrity token can also include a token creation time indicating a time at which the device integrity token is created.
デバイス整合性トークンのデータはまた、デバイス整合性トークンが作成された時刻を示すトークン作成時刻を含むことができる。

This enables the entity that receives the token to verify that the device integrity token corresponds to the current state of the client device 110 and not a stale state.
これにより、トークンを受信するエンティティは、デバイス整合性トークンがクライアントデバイス110の現在の状態に対応し、古い状態に対応していないことを検証することができる。

US11405197(GOOGLE LLC [US])
[0029] Referring now to FIG. 2A, in some examples, each key ID 230 in the list of valid key IDs 230 is associated with an expiration time 232 .
【００２３】
  次に図２Ａを参照すると、いくつかの例において、有効なキーＩＤ２３０のリスト内の各キーＩＤ２３０は、有効期限２３２に関連付けられる。

The expiration time 232 may be in the form of a timestamp. Here, the key ID 230 for key a is associated with the timestamp a, the key ID 230 for key b is associated with timestamp b, and the key ID 230 for key n is associated with timestamp n.
有効期限２３２はタイムスタンプの形態であってもよい。ここで、キーａのキーＩＤ２３０はタイムスタンプａに関連付けられ、キーｂのキーＩＤ２３０はタイムスタンプｂに関連付けられ、キーｎのキーＩＤ２３０はタイムスタンプｎに関連付けられている。

The expiration time 232 indicates when the respective key 220 (identified by the key ID 230 ) will expire.
有効期限２３２は、（キーＩＤ２３０によって特定される）対応するキー２２０の有効期限がいつ終了するかを示す。

When the token authenticator 250 receives an authentication token 210 , the token authenticator 250 may determine whether the current time is after the expiration time 232 associated with the respective key ID 230 contained within the authentication token 210 .
トークン認証部２５０は、認証トークン２１０を受信すると、現在時刻が、認証トークン２１０の中に含まれる対応するキーＩＤ２３０に関連付けられた有効期限２３２の後であるか否かを判断してもよい。

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[0035] Referring now to FIG. 3, exemplary timelines 300 a -c for three keys k1 , k2 , k3 is shown.
【００２９】
  次に図３を参照すると、３つのキーｋ_１、ｋ_２、ｋ_３の、具体例としての時間軸３００ａ～３００ｃが示されている。

At timeline 300 a , the token issuer 200 creates or generates the key 220 k1 at time tc1 .
トークン発行部２００は、時間軸３００ａの時間ｔｃ_１において、キー２２０ｋ_１を作成または生成する。

At this point, the token issuer 200 updates the token authenticator 250 regarding the validity of the new key k1 .
この時点で、トークン発行部２００は、新たなキーｋ_１の有効性に関してトークン認証部２５０をアップデートする。

In some examples, the token issuer 200 waits for a threshold period of time (d in this example) prior to signing authentication tokens 210 with the newly generated key 220 k1 .
いくつかの例において、トークン発行部２００は、新たに生成したキー２２０ｋ_１を用いて認証トークン２１０に署名する前に、しきい値期間（この例ではｄ）の間待機する。

That is, in some examples, the token issuer 200 waits for a configurable d amount of time prior to signing authentication tokens 210 with a newly generated key 220 .
すなわち、いくつかの例において、トークン発行部２００は、新たに生成したキー２２０を用いて認証トークン２１０に署名する前に、設定可能な時間量ｄの間待機する。

This allows time to synchronize valid key ID 230 with token authenticators 250 so that authentication tokens 210 are not wrongly rejected. The token issuer 200 signs authentication tokens 210 with the key 220 k1 for a signing period 310 a.
これにより、認証トークン２１０が誤って拒絶されないように、有効なキーＩＤ２３０をトークン認証部２５０と同期させる時間が得られる。トークン発行部２００は、署名期間３１０ａの間に、キー２２０ｋ_１を用いて認証トークン２１０に署名する。

US11276400(GOOGLE LLC [US])
Moreover, adding new tasks requires third party developers to add new canonical commands, and it typically takes time and resources for automated assistants to learn acceptable variations of those canonical commands.
その上、新たなタスクを追加することは、新たな標準コマンドを追加することをサードパーティの開発者に求め、通常、自動アシスタントがそれらの標準コマンドの許容できる相違を学習するために時間およびリソースがかかる。

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As another example, a restaurant called “Hypothetical Café” may be represented by a node that also includes attributes such as its address, type of food served, hours, contact information, etc.
別の例として、「Hypothetical Cafe」と呼ばれるレストランは、その住所、提供される飲食物のタイプ、営業時間、連絡先情報などの属性も含むノードによって表されてよい。

The “Hypothetical Café” node may in some implementations be connected by an edge (e.g., representing a child-to-parent relationship) to one or more other nodes, such as a “restaurant” node, a “business” node, a node representing a city and/or state in which the restaurant is located, and so forth.
「Hypothetical Cafe」ノードは、いくつかの実装形態では、「レストラン」ノード、「ビジネス」ノード、レストランが位置する都市および/または州を表すノードなどの、1つまたは複数の他のノードに(たとえば、子から親への関係を表す)エッジによって接続されてよい。

////////

In some cases, slots for such a dialog routine may include a predicted time the user will arrive at the user's intended destination,
場合によっては、そのような対話ルーチン用のスロットは、ユーザの所期の目的地にユーザが到着する予測時刻を含んでよく、

which may be filled by the user or automated predicted, e.g., by automated assistant 120 , based on position coordinate data, calendar data, etc.
そうした予測時刻は、ユーザによって埋められてよく、または位置座標データ、カレンダーデータなどに基づいて、たとえば、自動アシスタント120によって自動的に予測されてよい。

刃面（カテーテル）

US2010300451(KIMBERLY CLARK CO [US])
[0022] The sheath 2 in this embodiment includes an inner hub 6 with integral end stop 8 .
【００１９】
  この実施形態では、シース２は、近位側係止部８を有する内側ハブ６を含む。

The needle hub 4 prohibits movement of the sheath 2 in the proximal direction by coming into contact with the inner dilator 2 at its proximal end 10 .
針３のハブ４は、シース２の近位端１０と当接することによって、シース２の近位方向への移動を妨げる。

The proximal end stop 8 limits the movement of the inner sheath 2 in the distal direction by coming into contact with the interior of the introducer dilator 1 at its distal end 13 .
近位側係止部８は、イントロデューサ拡張器１の遠位端１８の内面と当接することにより、シース２の遠位方向への移動を制限する。

In this manner the sheath 2 always remains within the central cavity 12 of the introducer introducer dilator 1 ,
このようにして、シース２は、常に、イントロデューサ拡張器１の中央キャビティ（内部キャビティ）１２内に留まることとなる。

and the distal tip 11 of the inner sheath 2 is prevented from overlapping the needle bevel 14 when the device 20 is fully assembled.
また、本発明のデバイス２０を完全に組み立てたとき、シース２の遠位端（先端）１１が針３の刃面１４と互いに重なり合うことが防がれる。

電極針

US11033275(ARTIO MEDICAL INC [US])
 In alternate embodiments of a three-conductor arrangement, two conductors are incorporated into, or carried by, a delivery catheter 1000 and
３つの導体配置の代替的実施形態では、２つの導体が送達カテーテル１０００へと組み込まれるかまたは送達カテーテル１０００によって運ばれ、

a third conductor is configured to make electrical contact with patient in another manner, such as with an electrode patch or electrode needle. 
第３の導体は、電極パッチまたは電極針で、といったような他の方法で患者との電気接点を作るよう構成される。

保水率

US2021171783(UNIV WASHINGTON [US])
Hydrogels with three-dimensional crosslinked networks and high capacity of water are
３次元架橋ネットワークを有し保水率の高いヒドロゲルは、

of interest because of their potential in biomedical applications, such as biosensor devices, tissue implants, and contact lenses or marine applications, such as ship hulls, marine structures, marine sensors and fishing nets.
バイオセンサデバイス、組織埋込み物、およびコンタクトレンズなどの生物医学用途、または船体、海洋構造物、海洋センサ、および網具などの海洋用途における潜在性のため、関心を集めている。

US2022010489(THE COURT OF EDINBURGH NAPIER UNIV [GB])
[0044] The unmodified cellulose nanofibrils resulting from the method of the first aspect pf the invention may have a water retention of greater than 5000%, for example greater than 6000% or greater than 7000%.
【００４１】
  本発明の第１のアスペクトｐｆの方法から得られる未変性セルロースナノフィブリルは、５０００％を超える、例えば６０００％を超える、または７０００％を超える保水率を有する可能性がある。

A water retention of 5000% means that the material will absorb 50 times its own weight in water, 6000% means 60 times its own weight and 7000% means 70 times its own weight in water.
５０００％の保水性は、該物質が水中でそれ自体の重量の５０倍、６０００％の手段がそれ自体の重量の６０倍、および７０００％の手段が水中でそれ自体の重量の７０倍を吸収することを手段する。

US2019060515(PROCTER & GAMBLE [US])
Take the specimen and submerge it in distilled water for 5.0 + 0.1 min. Remove the specimen from the water, carefully suspend the specimen vertically from its corner for 10 + 0.1 min to allow to drain.
【００８５】
  試料を取り出し、蒸留水中に５．０±０．１分間浸漬する。試料を水から取り出し、試料をその角部から１０±０．１分間垂直に慎重に吊るして排水させる。

Measure the mass of the specimen and record as the wet mass to the nearest 0.0001 g.
試料の質量を測定し、湿潤質量として０．０００１ｇ単位で記録する。

Calculate the Water Retention as the difference between the wet mass and dry mass divided by the dry mass (g). Record to the nearest 0.01 g/g.
湿潤質量と乾燥質量との差を乾燥質量（ｇ）で除したものとして保水率を計算する。０．０１ｇ／ｇ単位で記録する。

US9861097(DOW AGROSCIENCES LLC [US])
[0117] Reported physical characteristics for the AlphaCell BH-200 material
【００８７】
  ＡｌｐｈａＣｅｌｌ  ＢＨ－２００材料に関して報告された物理的特性は、

include an average fiber length of 35 microns, bulk volume 2.1-2.6 cc/g, water retention of 3.0% g/g and screen analysis of 0% on 40 Mesh, 93-100% through 100 Mesh and 75-100% through 200 Mesh.
３５ミクロンの平均線維長、２．１～２．６ｃｃ／ｇのバルク体積、３．０％ｇ／ｇの保水率、ならびに、４０メッシュに対して０％、１００メッシュを介して９３～１００％、および、２００メッシュを介して７５～１００％のふるい分析値を含む。

処理対象空間

US2021027758(SONY CORP [JP])
[0006] However, for example, when performing noise reduction of a large space such as a residence or a public space, arithmetic processing must be enabled by evenly arranging microphones and speakers in the space.
【０００５】
  しかし、例えば、住居や公共スペース等の広い空間の騒音低減を行う場合、まんべんなく空間内にマイクロホンおよびスピーカを配置して演算処理ができなければならない。

Since a general-purpose AD converter, a general-purpose processing unit, and a general-purpose DA converter are only capable of accommodating several ten channels at the most,
汎用のＡＤコンバータや演算装置、ＤＡコンバータは多くても十数チャンネル対応程度で、

when a size of a processing object space and signal processing resources are taken into consideration, a case where several tens of channels to several hundreds of channels are required
処理対象空間の大きさや、信号処理リソースを考慮すると、数十チャンネル～数百チャンネル必要な場合、

 has a problem in that the numbers of AD converters, processing units, DA converters, and the like to be used increase proportionally and that a scale of a system becomes excessively large.
それに応じて使用するＡＤコンバータ、演算装置、ＤＡコンバータなどの数も増え、システムの規模が大きくなり過ぎるという問題がある。

US10675659(PANASONIC IP MAN CO LTD [JP])
[0011] According to the present disclosure, there is provided a projection indicator which specifies a position of a parcel based on an image including the parcel, the indicator including: a processor; and a memory,
【００１１】
  本開示は、荷物を含む画像に基づき、当該荷物の位置を特定する投影指示装置であって、プロセッサと、メモリと、を備え、

in which by cooperating with the memory, the processor determines whether or not each of pixels in the image is a pixel included in a processing target space in which the parcel is to be present based on coordinates of each of the pixels,
前記プロセッサは、前記メモリと協働して、前記画像の各画素が、荷物が存在すべき処理対象空間に含まれる画素であるか否かを、各画素の座標に基づき判定し、

regards only the pixel included in the processing target space as a processing point to be processed and registers the processing point in the memory, and obtains the image of the parcel based on the registered processing point to specify the position of the parcel.
前記処理対象空間に含まれる画素のみを処理すべき処理点とみなして、前記メモリに登録し、登録された前記処理点に基づき前記荷物の画像を取得し、当該荷物の位置を特定する。

スリープさせる

US11636174(INTEL CORP [US])
While waiting for data from memory or one of the shared functions, dependency logic within the execution units 508 A- 508 N causes a waiting thread to sleep until the requested data has been returned.
メモリ又は共有機能の１つからのデータを待機する間、実行ユニット５０８Ａ－５０８Ｎ内の依存性ロジックは、要求されたデータが返されるまで、待機しているスレッドをスリープさせる。

While the waiting thread is sleeping, hardware resources may be devoted to processing other threads.
待機スレッドがスリープしている間、ハードウェア・リソースは、他のスレッドの処理に割り当てられてもよい。

US11632284(ERICSSON TELEFON AB L M [SE])
[0219] This problem may be addressed, in some embodiments, by having the UE go (back) to sleep as soon as it has received sufficiently good system information and/or synchronization,
[1203] この問題は、いくつかの実施形態では、ＵＥが十分に良好なシステム情報および／または同期を受信するとすぐに、ＵＥをスリープさせる（スリープに戻す）ことによって対処され得、

where “sufficiently good” is determined by meeting a predetermined threshold or thresholds, without necessarily searching over an entire predetermined search interval.
ここで、「十分に良好な」は、必ずしも、所定の探索間隔全体にわたって探索することなしに、所定のしきい値を満たすことによって判定される。

This approach allows the UE to realize power savings, especially in environments with good signals.
この手法は、特に、良好な信号をもつ環境において、ＵＥが電力節約を実現することを可能にする。

US9820229(QUALCOMM INC [US])
[0145] The examples described above may allow for having the UE sleep in the frequency domain based on the characteristics of OFDM/A.
【０１２１】
  [0145]  上で説明されている例は、ＯＦＤＭ／Ａの特性に基づき周波数ドメイン内でＵＲをスリープさせることを許容できる。

Then, clock and/or voltage scaling may be performed at line-rate and based on the PRB assignment.
次いで、クロックおよび／または電圧スケーリングが回線速度で行なわれ、またＰＲＢ割り当てに基づくものとしてよい。

The above scheme may be abandoned for sub-frames where the UE is required to report a wideband CQI report to the eNode-B.
上記の方式は、ＵＥが広帯域ＣＱＩ報告をｅＮｏｄｅ－Ｂに報告することを必要とするサブフレームに対しては放棄され得る。

Furthermore, in the event of a distributed PRB assignment, the highest clock selected may be commensurate with the highest bandwidth from the multiple bandwidths associated with each distributed PRB.
さらに、分散ＰＲＢ割り当ての場合、選択された最高クロックは、各分散ＰＲＢに関連付けられている複数の帯域幅から最高帯域幅と比例し得る。

液を付与

US2021393542(SQUAREX LLC [US])
In this case, the absorbent gauze layer did not contain the topical immunosensitizer solution before the step of applying the solution to the absorbent gauze layer of the dermal patch.
この場合、皮膚パッチの吸収性ガーゼ層に溶液を付与する工程の前に吸収性ガーゼ層は局所免疫増感剤溶液を含まなかった。

US11456225(CORNING INC [US])
An etching solution is then applied to the glass substrate 100 . The glass substrate 100 is thinned by the etching solution.
次にガラス基板１００にエッチング液を付与する。ガラス基板１００はエッチング液によって薄くなる。

Because the etching rate of the glass substrate 100 is faster at the damage track, the damage track is preferentially etched so that a via 108 is opened through the glass substrate 100 .
ガラス基板１００のエッチング速度は損傷痕付近のほうがより速くなるので、ビア孔１０８がガラス基板１００を貫通して開口されるように、損傷痕が優先的にエッチングされる。

から選択される少なくとも１種

EP4167953(OREAL [FR])
[0014] a) The PHA copolymer(s)
【００１５】
ａ）ＰＨＡコポリマー

[0015] The composition of the invention comprises as first ingredient a) one or more PHA copolymers which contain, and which are preferably consist of, at least two different repeating polymer units chosen from the units (A) and (B) as defined previously.
本発明の組成物は、第１の成分ａ）として、上記で定義された単位（Ａ）及び（Ｂ）から選択される少なくとも２種の異なる繰り返しポリマー単位を含有するか、好ましくはそれらからなる１種又は複数のＰＨＡコポリマーを含む。

US2023223529(BASF SE [DE])
In a preferred embodiment, electrolyte (3) comprises at least one flame retardant selected from trimethyl phosphate, CH3 —P(O)(OCH3 )2 , triphenylphosphate, and tris-(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate.
【００７９】
  好ましい実施態様において、電解質（３）は、トリメチルホスフェート、ＣＨ_３－Ｐ（Ｏ）（ＯＣＨ_３）_２、トリフェニルホスフェート、及びトリス－（２，２，２－トリフルオロエチル）－ホスフェートから選択される少なくとも１種の難燃剤を含む。

US11139162(VERSUM MAT US LLC [US])
providing a reducing agent into the reactor to at least partially react with the at least one organoaminosilane precursor and deposit a silicon containing film onto the one or more substrates
反応器に還元剤を提供して、少なくとも１種の有機アミノシラン前駆体と少なくとも部分的に反応させて、１つまたは２つ以上の基材上にケイ素含有膜を堆積する工程と、を含み、

wherein the reducing agent is at least one selected from the group consisting of hydrogen, hydrogen plasma, or hydrogen chloride. 
ここで、還元剤は、水素、水素プラズマ、塩化水素、からなる群から選択される少なくとも１種である。

EP4087620(TCR2 THERAPEUTICS INC [US])
In one embodiment, the bacterium is at least one selected from the group consisting of Alcaligenes faecalis, Candida albicans, Escherichia coli, Haemophilus influenza. Neisseria meningitides. Pseudomonas aeruginosa. Staphylococcus aureus, Streptococcus pneumonia, and Streptococcus pyogenes group A.
一実施形態では、細菌は、Ａｌｃａｌｉｇｅｎｅｓ  ｆａｅｃａｌｉｓ、Ｃａｎｄｉｄａ  ａｌｂｉｃａｎｓ、Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ  ｃｏｌｉ、Ｈａｅｍｏｐｈｉｌｕｓ  ｉｎｆｌｕｅｎｚａ、Ｎｅｉｓｓｅｒｉａ  ｍｅｎｉｎｇｉｔｉｄｅｓ、Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ、Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ａｕｒｅｕｓ、Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｐｎｅｕｍｏｎｉａ、及びＳｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｐｙｏｇｅｎｅｓ  Ａ群からなる群から選択される少なくとも１種である。

US10941090(HONEYWELL INT INC [US])
Thus, the metal trifluoroacetate may be at least one selected from the group of lithium trifluoroacetate, potassium trifluoroacetate, sodium trifluoroacetate, calcium trifluoroacetate, and magnesium trifluoroacetate.
したがって、金属トリフルオロアセテートは、トリフルオロ酢酸リチウム、トリフルオロ酢酸カリウム、トリフルオロ酢酸ナトリウム、トリフルオロ酢酸カルシウム、及びトリフルオロ酢酸マグネシウムの群から選択される少なくとも１種であり得る。

両親媒性脂質

US2023242621(VIR BIOTECHNOLOGY INC [US])
Vesicles, such as liposomes, may be used in formulations for delivering RNAi agents disclosed herein;
リポソームなどの小胞を、本明細書に開示されるＲＮＡｉ剤を送達するための製剤に使用することができる；

such formulation may have desirable properties such as specificity and the duration of action.
かかる製剤は、望ましい特性、例えば、特異性および作用持続時間を有し得る。

As used herein, the term “liposome” means a vesicle composed of amphiphilic lipids arranged in a spherical bilayer or bilayers.
本明細書で使用される場合、用語「リポソーム」は、球状二重層（複数可）に配置された両親媒性脂質で構成される小胞を意味する。

結晶方位

US2023085106(UNIV DRESDEN TECH [DE])
[0053] In various embodiments, a non-conductive layer and/or an insulating layer may further be provided in the layer stack, for example bordering the control electrode (third electrode).
【００４６】
  様々な実施形態では、非導電層及び／又は絶縁層が、例えば制御電極（第３電極）に隣接して、積層体内にさらに設けられてもよい。

Thus, for example, a field effect transistor (FET) or an insulated gate bipolar transistor (IGBT) may be implemented.
したがって、例えば、電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）又は絶縁ゲートバイポーラトランジスタ（ＩＧＢＴ）を実装することができる。

The insulating layer or the non-conducting layer may be an organic layer, for example a crystalline organic layer.
絶縁層又は非導電層は、有機層、例えば結晶性有機層であってもよい。

The non-conducting organic layer may have a band gap, for example by means of no or low doping and/or corresponding crystal orientation with respect to directly adjacent semiconductor layers, leading to a non-conducting state during operation of the semiconductor device.
非導電性有機層は、例えば、ドーピングなし、又は低ドーピング、及び／又は直接隣接する半導体層に対する対応する結晶配向によって、バンドギャップを有することができ、半導体デバイスの動作中に非導電状態をもたらす。

The non-conducting layer may have a different crystal orientation, for example configured the evaporation parameters, from the directly adjacent p-, n- or i-conducting organic layer(s).
非導電層は、直接隣接するｐ－、ｎ－又はｉ－導電性有機層とは異なる結晶方位、例えば蒸着パラメータを構成することができる。

An organic semiconductor layer formed on the insulating or non-conducting semiconductor layer may be crystalline, for example, single-crystalline or polycrystalline, or amorphous.
絶縁性又は非導電性半導体層上に形成される有機半導体層は、例えば、単結晶又は多結晶、又は非晶質であってもよい。

US2020127634(JAPAN STEEL WORKS LTD [JP])
[0074] As shown in FIG. 2, a surface acoustic wave element 1 is obtained by providing an interdigital electrode 10 on the bonded substrate 5 . In the present invention, an orientation represents a plane orientation.
 接合基板５には、図２に示すように、櫛形電極１０を設けることで弾性表面波素子１が得られる。なお、本発明では、方位は面方位を示している。

In this embodiment, the orientation represents an X direction of a surface Y-cut at 36° in LT, and an X direction of a surface Y-cut at 41° in LN, and the orientation represents an X direction of an AT-cut or ST-cut surface in the quartz substrate.
この実施形態では、方位は、ＬＴでは３６°Ｙカット面のＸ方向、ＬＮでは４１°Ｙカット面のＸ方向を示し、水晶基板ではＡＴまたはＳＴカット面のＸ方向を示す。

 

Quartz Crystal Cuts: AT, BT, SC, CT . ., electronicsnotes  
"The angle to the main crystal axes at which a crystal blank is cut has a major impact on its performance: frequency stability, activity, Q, temperature coefficient, etc."

"This quartz crystal is cut at an angle of 35° 25' to the Z axis as shown. The crystal blanks are cut in this orientation（＊方位）to the crystal axes and then the blank is machined and finished to the required size."

Orientation angles（＊方位角）, NDK 
"Orientation angles from the crystal axis are selected according to use (oscillation frequencies and electrical characteristics) ."

磁場の偏り

US9933640(SICPA HOLDING SA [CH])
[0113] The magnetic plate MP, respectively the combined magnetic plates MP 1 , MP 2 , . . . MPi are
【００９２】
  磁性板ＭＰ及び組み合わせ磁性板ＭＰ１，ＭＰ２，．．．ＭＰｉのそれぞれは、

preferably more extended than the OEL to be produced, in order to avoid border effects due to the deviation of the magnetic fields at the plate borders.
磁性板境界における磁場の偏りに起因する境界効果を回避するために、形成されるべきＯＥＬよりも延ばされることが好ましい。