液体で構成

US11728777(AETHERA TECH LIMITED [CA])
[0045] Insulation used for protection in the RF generator 320 , in the case of a non-isolated power supply, should perform better than insulation used for purely functional purposes in the case of an isolated power supply.
【００３３】
  非絶縁型電源装置の場合、ＲＦ発生器３２０の保護に使用される絶縁は、絶縁型電源装置の場合の純粋に機能的な目的で使用される絶縁よりも優れた性能を発揮すべきである。

The performance of insulation is usually considered in terms of its dimensions with respect to creepage and clearance as well as its performance during voltage testing especially used for assessment of solid insulation.
絶縁の性能は、通常、沿面距離及びクリアランスに関する寸法並びに特に固体絶縁の評価に使用される電圧試験中の性能の観点から検討される。

Solid insulation is the insulation not composed of a gas (e.g. air) or a liquid. 
固体絶縁は、気体（例えば、空気）又は液体で構成されていない絶縁である。

US11198878(LABCYTE INC [US])
[0068] The term “fluid” as used herein, as in a “fluid medium,” refers to matter that is nonsolid and at least partially composed of a liquid.
【００６８】
  「流体媒体」などの用語「流体」は、本明細書で使用される場合、非固形物であり、少なくとも部分的に液体で構成されている物質を指す。

A fluid may contain a solid that is minimally, partially or fully solvated, dispersed or suspended.
流体は、最小限に、部分的に、または完全に溶媒和、分散、または懸濁されている固形物を含んでいてもよい。

Examples of fluids include, without limitation, aqueous liquids (including water per se and salt water) and nonaqueous liquids such as organic solvents and the like.
流体の例としては、限定されないが、水性液体（水をそれ自身および塩水を含む）および有機溶媒などの非水性液体などが挙げられる。

The fluid may also be a biological fluid containing cells, biomolecules, or the like.
また、流体は、細胞または生体分子などを含む生物学的流体であってもよい。

US10746734(SELMA DIAGNOSTICS APS [DK])
WO2010019388 A2 entitled “Method and apparatus for discretization and manipulation of sample volumes”
国際公開第２０１００１９３８８Ａ２号（名称"Method and apparatus for discretization and manipulation of sample volumes"）は、

describes micro-well compartments, which may be used to capture and divide a liquid sample by applying a chemical seal comprised by one or more immiscible liquids.
マイクロウェル区画を記載しており、これは、１つ以上の非混合性液体で構成された化学的シールを付与することによって液体サンプルを捕獲し分割するために使用できる。

US9169285(COCA COLA CO [US])
Edible gels are gels that can be eaten.
【０３３６】
  食用ゲルは、食べることができるゲルである。

A gel is a colloidal system in which a network of particles spans the volume of a liquid medium.
ゲルは、液体媒体の容積中に粒子の網目が広がるコロイド系である。

Although gels mainly are composed of liquids, and thus exhibit densities similar to liquids, gels have the structural coherence of solids due to the network of particles that spans the liquid medium.
ゲルは主として液体で構成され、従って液体と同様の密度を示すが、液体媒体に広がる粒子の網目のために、ゲルは固体の構造上の一貫性を有する。

For this reason, gels generally appear to be solid, jelly-like materials.
このため、ゲルは一般に固体のゼリー様材料であるように見える。

Gels can be used in a number of applications. For example, gels can be used in foods, paints, and adhesives.
ゲルは、いくつかの用途で使用することができる。例えば、ゲルは食品、塗料、および接着剤において使用することができる。

イギリスパン

思い出は宇宙の彼方にある

あの日確かに見たイギリスパンの絵

幼稚園のお遊戯会で被った紙の帽子に母が描いてくれた

パステル調で妙にリアルで、円弧状の耳がなぜか強く印象に残った

 

100万光年の彼方に瞬間テレポートしても

そこはもう100万光年前の景色ではない

100万光年前の光がようやく届いた

記憶の名残も光となって届いた

 

あの彼方は、もうない

あの時も、もうない

 

増大させることなく

US11492697(APPLIED MATERIALS INC [US])
[0028] In some embodiments, a distance between the target 138 and the substrate support 124 is about 60.0 mm to about 160.0 mm when the substrate support 124 is in a processing position.
【００２３】
  いくつかの実施形態では、基板支持体１２４が処理位置にあるときのターゲット１３８と基板支持体１２４の間の距離が約６０．０ｍｍ～約１６０．０ｍｍである。

In some embodiments, a distance 158 between the target 138 and the substrate 122 when the substrate support 124 is in a processing position is about 90.0 mm to about 110.0 mm.
いくつかの実施形態では、基板支持体１２４が処理位置にあるときのターゲット１３８と基板１２２の間の距離１５８が約９０．０ｍｍ～約１１０．０ｍｍである。

The inventors have observed that the shorter spacing between the target 138 and the substrate 122 increases contamination and re-sputtering issues because of a shrinking anode surface area.
ターゲット１３８と基板１２２の間の間隔を短くすると、アノード表面積が縮小するために、汚染および再スパッタリングの問題が増大することを本発明の発明者は認めた。

Increasing the surface area of the anode without increasing the spacing between the target 138 and the substrate 122 
ターゲット１３８と基板１２２の間の間隔を増大させることなくアノードの表面積を増大させると、

advantageously provides the benefits of the shorter spacing between the target 138 and the substrate 122 while decreasing contamination and re-sputtering issues.
ターゲット１３８と基板１２２の間の間隔が短いことの利点が有利に提供され、同時に、汚染および再スパッタリングの問題が縮小する。

US2021386340(ABBOTT DIABETES CARE INC [US])
 In some embodiments, a series of droplets may be applied atop one another to achieve the desired thickness of the active area and/or membrane, without substantially increasing the diameter of the applied droplets (i.e., maintaining the desired diameter or range thereof).
一部の実施形態では、望ましい厚みの活性区域及び／又は膜を達成するために、一連の小滴をそれらの直径を実質的に増大させることなく（すなわち、望ましい直径又はその範囲を維持しながら）互いの上に付加することができる。

Each single droplet for example may be applied and then allowed to cool or dry, followed by one or more additional droplets.
例えば、各単一小滴を付加し、次に、それを冷却又は乾燥させ、それに１又は２以上の追加の小滴を続けることができる。

Active areas and membrane may, but need not be, the same thickness throughout or composition throughout.
活性区域及び膜は、全体を通して同じ厚み又は組成とすることができるが、そうである必要はない。

素地鋼板

US11091818(POSCO [KR])
[0066] The cold-rolled steel sheet of the present disclosure having excellent ductility, hole-formability, and surface treatment characteristics includes a Ni or Fe plating layer formed on a surface thereof, and here, a coating weight is preferably 5 to 40 mg/m2 .
【００５３】
  また、本発明の延性、穴加工性、及び表面処理特性に優れた冷延鋼板は、その表面に形成されたＮｉまたはＦｅめっき層を含み、このとき、そのめっき付着量は５～４０ｍｇ／ｍ^２とすることが好ましい。

If the coating weight is less than 5 mg/m2 , Mn or Si oxide may be easily formed on the surface due to the fine oxidation during or after annealing, and as a result, a phosphate coating is not formed to degrade adhesion between the electrodeposition coating layer and the base steel sheet.
これは、めっき付着量が５ｍｇ／ｍ^２より少ないと、図６のように、焼鈍中または焼鈍後に微細な酸化によって、表面にＭｎまたはＳｉ酸化物が形成されやすく、その結果、リン酸塩被膜が形成されず、電着塗装層と素地鋼板の密着性が悪くなるためであり、

On the other hand, if the coating weight of Ni or Fe is more than 40 mg/m2 , the phosphate crystal is coarsened to decrease fine phosphate unevenness, lowering adhesion.
これに対して、ＮｉまたはＦｅのめっき量が４０ｍｇ／ｍ^２より多いと、リン酸塩結晶が粗大化して微細なリン酸塩凹凸が減少することで、密着性が低下するためである。

US11472159(NIPPON STEEL CORP [JP])
[0145] If the logarithm log PO 2 of the oxygen partial pressure PO 2 of the atmosphere is −26 or more, the oxygen potential becomes sufficiently higher, the decarburization proceeds, the state of external oxidation of the Si or Mn is suppressed, and good plating adhesion can be secured.
【００９７】
  雰囲気の酸素分圧Ｐ_Ｏ２の対数ｌｏｇＰ_Ｏ２が－２６以上であると、酸素ポテンシャルが十分に高くなって上記脱炭が進行し、ＳｉやＭｎの外部酸化状態が抑制され、良好なめっき密着性を確保し得る。

log PO 2 is preferably −25 or more.
ｌｏｇＰ_Ｏ２は、好ましくは－２５以上である。

On the other hand, if log PO 2 is −22 or less, excessive decarburization due to the oxygen potential becoming too high is suppressed,
一方、ｌｏｇＰ_Ｏ２が－２２以下であると、酸素ポテンシャルが高すぎることによる過度な脱炭が抑制され、

not only the Si and Mn, but also the base metal steel sheet itself ending up being oxidized is suppressed, and the desired surface condition becomes easier to obtain.
Ｓｉ及びＭｎだけでなく素地鋼板自体も酸化されてしまうことが抑制され、所望の表面状態を得やすくなる。