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★ASLM、中国向け半導体装置の出荷を直前に停止

2024年01月08日 | 中国

 

Chinaへの半導体の締め付けが効いてきているようです。オランダのASLMが半導体装置の出荷を直前に停止したそうです。
  と言うか、出荷する積もりだったことに驚きます。宮崎さんが取り上げてくれています。
  やはり、こうしてこそっと取引をする企業は少なくないのじゃないでしょうか。やはり、世界は腹黒い。

  「宮崎正弘の国際情勢解題」より   令和六年(2024)1月5日(金曜日)
  通巻第8081号   

 ASLM、中国向け半導体装置の出荷を直前に停止
 半導体製造プロセスの中枢はリソグラフィ技術

 ASLMはオランダ国籍で、世界最大のリソグラフィ技術を誇り、台湾、韓国、中国、米国、そして日本へ半導体製造装置を輸出してきた。2024年1月2 日、ASLMはオランダ政府の輸出許可が下りなかったとして中国の半導体大手SMIC(中芯国際電路)向けの半導体装置NXT2050iとNXT2100 を出荷直前に取りやめた。
 すでに米国はASLMに対して「ツィンスキャンの「NXT1930Di」の輸出も禁止している。

 中国外交部は「資本市場の原則を守れ、法と重視しろ」と噛みついたが、ASLMは応じなかった。
この装置はリソグラフィで、中国では唯一、SMEE(上海マイクロ電子)が、28ナノ半導体製造に成功し、ウィチャットなどに用いられている。

 半導体製造プロセスの中枢はリソグラフィ技術である。半導体製造の前工程だけでも次の工程を経る。
回路、パターン設計 → フォトマスク作成 → ウエハ(シリコンインゴッド切断)
→ ウエハ研磨 → 表面酸化 → 薄膜形成 → フォトレジスト塗布 → 露光と現像 → エッチング →洗浄 →イオン注入 → 平坦化 → 電極形成 → 検査

 これらの前工程を経て、つぎの後工程へと進む。この工程の中枢が「フォトレジスト塗布→露光と現像」のプロセスで、リソグラフィ技術が活かされ、ASLMは、世界最大のメーカーである。
しかしこれらの措置で中国の半導体進展を阻止できるか?

  Chinaがこれで懲りて諦めるなんてことは有り得ないでしょう。きっとあらゆる手を使って来ることでしょう。
  そして、それに呼応する世界の企業もまだまだ出てくることでしょう。それにしても、諦めの悪い国です。


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